二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #9070196 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330蚀刻器是一种基于气体集群离子束（GCIB）的蚀刻系统，在低温下运行。此高级设备专为高通量等离子体蚀刻工艺而设计,能够对蚀刻配置进行卓越控制,从而实现多种应用。与其他蚀刻技术相比,GCIB提供了改进的边缘轮廓控制、更少的充电、更好的清洁度、更好的均匀性、更小的损坏和更高效的蚀刻。AMAT 8330蚀刻器有一个400毫米的加工室，并配有一个自动化的巨型升降机，便于处理负载和卸载。其1300瓦的射频功率可确保在蚀刻时更高的吞吐量和精确的轮廓控制。蚀刻器利用各种气体，如氧、氯、CF4和CHF3，用于各种反应性离子蚀刻（RIE）工艺。工艺参数可以精确调整，如气体浓度、压力、流量、射频功率、偏压等。由于其多用途的工艺能力，APPLIED MATERIALS 8330蚀刻器可用于蚀刻各种材料，如硅、硅化物、聚酰亚胺等。这种最先进的设备非常适合半导体制造的应用，例如芯片互连，以及复杂的集成电路。也适用于晶体SiGe、III-V化合物、SiNx、氮化物基器件等先进材料的蚀刻。8330蚀刻器带有用户友好的图形用户界面,可轻松监控和调整过程。它还包括一个原位清洁系统，能够在进程运行之间保持高度清洁。这样可以减少停机时间,提高流程稳定性和可重复性。蚀刻器还配备了预测监控能力，对蚀刻过程进行实时分析，确保操作顺畅，用户最大便利。最后，AMAT/APPLIED MATERIALS 8330蚀刻器是半导体技术行业中为蚀刻工艺设计的先进设备。这种低温蚀刻器在处理各种材料时提供卓越的性能、可重复性和效率。其用户友好的界面、原位清洗系统和预测性监控功能，使操作平稳，可重复性最佳。因此，AMAT 8330蚀刻器为各种等离子体蚀刻工艺提供了有效的解决方桉。