二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3 #293627020 待售
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ID: 293627020
晶圆大小: 12"
优质的: 2019
Metal etcher, 12"
(4) Load ports
Chambers:
Chamber A1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber A2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber B2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C1: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Chamber C2: CNTSYM3; Chamber chemicals gases used: O2, Cl2, HBr, SiCl5, SF6, BCl3, CH2F2, SO2, NF3, CHF3, CF4, He, Ar, N2
Gas lines:
Line1, 2, 4, 12, 13: MFC
Line3: Cl2, 400 SCCM
Line4: MFC
Line5: HBr, 400 SCCM
Line6: SiCl4, 120 SCCM
Line7: SF6, 100 SCCM
Line8: O2, 60 SCCM
Line9: BCl3, 300 SCCM
Line10: CH2F2, 40 SCCM
Line11: SO2, 200 SCCM
Line14: NF3, 500 SCCM
Line15: CHF3, 300 SCCM
Line16: CF4, 300 SCCM
Line17: He, 500 SCCM
Line18: O2, 700 SCCM
Line19: Ar, 1000 SCCM
Line20: N2, 50 SCCM
Does not include:
Chiller
Dry pump
Power supply: 208 V AC, 3 Phase
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3是一种先进的蚀刻/灰烬设备,旨在在承运人注册的各种基板上产生优越的结构和图桉。该系统是建立在一个先进的，高能力的架构，利用经济驱动的灵活性和机电系统的速度。该单元可处理直径最大为8英寸的基材，并具有超过10种气体的气体控制能力，允许进行深度硅蚀刻、高密度等离子体蚀刻、抗蚀剂去除和差分剥离等一系列工艺。机器本质上也很模块化，允许用户配置工具以产生复杂的自定义结构和模式。AMAT Centris SYM3具有高分辨率的图像传输机制以及功能强大的自动对焦资产,可实现卓越的流程可重复性和产量。该模型还提供了各种最新的安全协议，以尽量减少因污染或其他操作问题而导致设备故障的风险。APPLIED MATERIALS Centris SYM3配备了一个闭环过程控制系统，平衡流速和压力，以最大限度地提高过程性能。此单元使用专有软件包自动控制和监视配方,并提供蚀刻过程的图形表示,以帮助操作员了解和优化过程。该技术允许即时执行多个蚀刻/灰分工艺配方,而不会停止当前的工艺和重新加载,从而提高吞吐量和可重复性。Centris SYM3是一款功能强大的蚀刻机,非常适合各种应用。该工具的开放规范提供了高度的灵活性,允许配置资产以最适合操作环境。其高质量的成像和闭环过程控制模型有助于提高产量和可重复性，让用户以更少的时间和精力获得更好的效果。
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