二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly #293625534 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly
ID: 293625534
Polysilicon etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher是一种设计用于提供高精度蚀刻和灰化工艺的设备。该系统利用反应性离子蚀刻(RIE)和电感耦合等离子体(ICP)蚀刻能力,以极低的温度和最小的样品损伤产生高质量的结果。ICP蚀刻技术可用于一系列应用,如深层反应性离子蚀刻(DRIE)、创建有图桉的表面或将结构蚀刻成基板。它结合了高蚀刻速率、出色的蚀刻选择性和良好的填充因子,以确保高精度图样和蚀刻深度。此外,该装置还配备了同轴喷嘴灰化器,提供了避免样品损坏的均匀低温灰化工艺。AMAT Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher运行一个创新的控制器和软件套件,可微调蚀刻和灰化参数,包括蚀刻深度和反应物成分、压力和流量、基板偏置和功率水平以及蚀刻时间。控制器还具有嵌入式工艺锁,使操作员能够设置最大压力和流量以防止损坏样品。用户界面直观且用户友好,允许快速编程参数以及报告和数据日志记录。APPLICED MATERIALS Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher在整个蚀刻和灰化室中提供出色的温度均匀性,无论基材尺寸如何,都能确保一致的结果。该机设计为减少污染和冷却时间,与多种工艺气体兼容,包括氟基、氯基和氮基。它还使用了200毫米蚀刻半径的专有密封技术和多个密封单元,以确保包含蚀刻和灰化化学品,从而降低了工艺成本。此外,该工具还包括用户定义的安全联锁,降低了意外接触化学物质的风险。总体而言,Centris SYM3Y Poly Etcher/Asher是一项创新资产,可为各种应用程序提供强大的蚀刻和灰化功能。它结合了先进、用户友好的控制器和软件套件以及创新的腔室设计和密封模型,提供了卓越的效果,减少了污染和冷却时间。
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