二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate stack #9289806 待售

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ID: 9289806
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Decoupled Plasma Nitride, 12" (2) Load ports Chambers A/B: DPN+ Chambers C/D: RTP Radiance Power supply: 110 AC, 3 Phase 2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ACP DPN Gate堆栈是一种用于处理半导体器件制造中使用的多种基板的蚀刻器/灰化器。该蚀刻器的设计是通过使用氟基和氯基化学的掺杂选择性等离子体蚀刻提供高度均匀的蚀刻深度和工艺。它能够对蚀刻工艺提供更好的控制,以及较高的材料去除率。该蚀刻器具有低压、低能电容耦合等离子体(CCP)蚀刻系统,具有精确的反应物控制功能,可确保对不同材料类型的蚀刻均匀性和选择性。这种蚀刻器还能够对诸如压力、气体分配和等离子体功率等蚀刻室条件进行出色的控制。该系统采用先进的控制参数,采用深度均匀、侧壁平滑的干净蚀刻表面,提供一致的蚀刻性能。AMAT Centura ACP DPN Gate堆栈采用专利双粒子中和器(DPN)技术,在非常高的频率下提供高偏置电压,而不会损坏基材。DPN技术还通过消除对传统灰化工艺的需求,将砷污染水平降至最低。DPN工艺也适合与一系列的底物一起使用,如多晶硅、铝、二氧化硅、砷化的。此外,蚀刻器还配备了增强的真空技术,提供清洁蚀刻环境,减少蚀刻后清洗时间,同时保持蚀刻质量。蚀刻器还允许对压力剖面进行精确控制,以防止对闸门堆栈造成损坏。蚀刻器还提供动态气体控制和超高速切换时间,从而实现宽广的处理窗口。此外,即使在难以蚀刻的区域,专用远程火炬也能提供精确的均匀性控制。最后,APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Gate堆栈还为蚀刻室提供了防反射和光散射防护屏蔽等安全功能。由于其精确的控制参数和先进的安全特性,这种蚀刻器可以提供高精度的蚀刻,同时尽量减少基板损坏的可能性。
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