二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack #9383657 待售
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已售出
ID: 9383657
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Decoupled plasma nitride deposition system, 12"
DRAM Gate nitridation system
(4) Facet mainframes
(2) D746 DPN Plus
R741 RTP Radiance RP chamber
DPN Plus chamber options:
Generator
Enhanced pulsed RF RTP radiance chamber
Technology option
Open loop tuner
Process application
PNA
DPN Plus gas delivery options:
He 500 SCCM
N2 500 SCCM
RTP Gas panel options:
(10) Regulators and display
Factory interface options
Configurable colored light
Operator access switch
TIRIS With RF E99 Carrier ID
Light curtain
Docking flange shield
Single axis aligner
Remote Options:
Flat panel monitor, 17"
Non standard request
O-Ring type CHEMRAZ chamber C & D
RTP ACP Block II gas panel
NSR Celerity
2010 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack是一款高性能、高精度的Etcher/Asher，用于亚微米处理。它配备了Direct Plasma Naming （DPN）技术，允许从0.3 µm 2/3的间距到0.12 µm 1/2的间距和在0.09 µm 1/4的间距上的双图样进行精确的选择性蚀刻和灰化以进行开发。Etcher/Asher也与多种基板兼容，如硅、半导体和金属氧化物。AMAT Centura ACP DPN Plus Gate Stack提供了一系列用于控制蚀刻/灰化过程的选项。这包括晶片的选择性和抗蚀性，设定适当的蚀刻条件，控制蚀刻压力，蚀刻持续时间，蚀刻速率和端点快速准确。它还允许用户调整过程效率，优化吞吐量和最小化边缘效果。此外，该系统还可用于蚀刻几种非选择性材料，如氧化硅、氮化硅和氧化铝。该系统还提供了一个用户友好、直观的图形用户界面，使操作员能够轻松设置和监控流程。Etcher/Asher可以配置各种附加硬件和软件选项,例如抛光头和等离子体查看器。集成的实时套件还提供了一组数据，如计量数据以及过程控制信息，以逐个晶圆的方式监控过程。总之,APPLIED MATERIALS Centura ACP DPN Plus Gate Stack是一款先进的蚀刻器/Asher,即使是最先进的工艺要求,也能提供精确级别。控制和过程参数的最佳组合、多种兼容材料、直观的图形用户界面以及强大的数据分析工具，使Centura ACP DPN Plus Gate Stack成为需要亚微米精度的行业的完美解决方桉。
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