二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly #9353988 待售

ID: 9353988
晶圆大小: 12"
优质的: 2014
Polysilicon etcher, 12" Silicon Axiom HT chamber: CCM Cover Chamber AC Cover (3) Silicon AdvantEdge G5 Mino chambers (3) Mesa sources AdvantEdge G5 Minos swap kit Gas panel: CL2 Purifier Factory interface: Right side storage pod Left side storage pod (3) Load ports Interface A (3) Info pads A or B (3) Operator access switches Front facing intake plenum Remote option: Voltage sag monitor Mainframe lifting sling: FIF kit 2014 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly是为高端集成电路(ICs)设计的先进蚀刻和灰化设备。它是一个功能齐全的系统,在蚀刻过程中提供与反应堆的直接晶圆连接和完全晶圆访问,从而提供更大的工艺灵活性和先进的工艺控制。该装置拥有集成的多波长光学观光机和精密的高精度运动控制,是深亚微米器件光刻的理想选择。此外,AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly还配备了一个用于精确温度控制的快速作用多区加热压板,以及一系列用于高精度制图的光束转向技术。APPLIED MATERIALS CENTURA AP AdvantEdge G5 Mesa Poly配备了高级软件界面,允许用户为每个蚀刻或灰化应用程序编程和存储配方及其他关键参数。此界面还使用实时图形跟踪工具性能,以使用户能够调整参数,从而严格控制蚀刻和灰化过程。此外,可以进行广泛的现场测量,以深入了解蚀刻或灰化过程,并允许用户相应地优化其配方。Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly利用精密控制的蚀刻工艺来保证统一的初始晶片轮廓和一流的边缘质量。即使在最先进的过程中,此资产也有助于通过孔和其他精细特征进行精确定位。此外,该型号还支持200 mm至315mm的晶圆直径,并且与一系列蚀刻气体完全兼容,根据应用要求提供了最大的灵活性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly凭借严密的工艺控制和洁净室设计,也实现了顶尖的颗粒控制。该设备配备了全面的真空系统,严格的机械和化学清洗工艺,精心挑选的蚀刻材料,达到无粒子添加的最高水平,确保更好的装置性能和寿命。综上所述,AMAT Centura AP AdvantEdge G5 Mesa Poly是为高端集成电路设计的顶级蚀刻和灰化设备。该机拥有集成的多波长光学检视工具、精密控制的蚀刻和先进的软件界面,可用于全面的过程控制。而且该资产提供了严密的粒子控制,与一系列蚀刻气体完全兼容,使其成为IC生产的理想选择。
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