二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal #9247622 待售
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已售出
ID: 9247622
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
DPS Etcher, 8"
Wafer shape: SNNF
EMO Type
Chamber:
Chamber A, B: DPS Metal DTCU chamber
Chamber C, D: ASP+ Chamber
Chamber E: Cool down chamber
Chamber F: Orient chamber
Load lock:
Load lock type: Narrow body
Auto rotation
Cassette type, 8"
Mapping function: FWM
Fast vent option
Vent type: Variable speed
Mainframe:
Platform type: Centura II Etcher
Buffer robot type: VHP
Buffer robot blade: Standard metal
Status light tower
Remote monitor: Table mount
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT Buffer robot
No SMIF
(2) Chillers: HX-150 and Steelhead0
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
NESLAB System II Heat exchanger
Front panel
Control rack
Local AC rack
Accessories
Cables
DPS R1 DTCU:
OEM-12B3 RF Generator type
GMW-25 RF Generator type
Gas panel configuration: VME1
EBARA ET800WS-A Turbo pump
Throttle valve
Endpoint: Monochromators
ASP+
Process control: Manometer
Microwave
Smart match
Magnetron head
Applicator
VDS Assembly
Sub-system:
(2) AMAT1 Chillers
(2) HX-150 Chillers
Electrical configuration:
Line voltage: 208 V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60 Hz
CE Marked
2000 vintage.
AMAT AMAT/APPLICED MATERIALS Centura DPS Metal是一款先进的蚀刻器/asher设备，为MEMS和半导体器件等精密应用提供最高级别的工艺控制和吞吐量。该系统依靠多频ICP源和先进的双模等离子体增强化学气相沉积（PECVD）腔室来优化蚀刻工艺。AMAT Centura DPS Metal通过提供始终如一的高产量、高可靠性和高吞吐量,在各种变量下都能获得优异的产量。APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal配备了一系列功能,使用户能够获得最佳的工艺结果。这些特性包括自动压力和温度控制、有效的等离子体源和多流输送单元。自动压力和温度控制可实现精确的过程控制,可用于调整特定应用程序的过程参数。此外，有效等离子体源增加蚀刻均匀性，提高蚀刻选择性。多流输送机确保合适的气体和化学品以适当的浓度到达腔室。该工具还可以进行广泛的蚀刻过程，如选择性晶片蚀刻、介电蚀刻、后CMP清洗和先进的光刻。每个工艺都是为了利用资产先进的等离子体蚀刻工艺而设计的。而且，该型号能够蚀刻铝、碳、硅等各类材料。这种广泛的加工能力使得设备适合各种应用，包括微腔、MEMS和半导体器件。Centura DPS Metal还提供出色的工艺一致性。这种均匀性确保所有晶片都以一致的方式蚀刻，从而在整个批次中实现一致的产量。此外,系统还包括高级流程监控功能,如实时目视监控和流程气流控制。这允许用户详细查看和监视流程,并提供对流程的控制。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS Metal提供了卓越的工艺控制级别,允许用户在任何情况下都能获得高精度结果。通过提供先进的等离子体蚀刻、工艺均匀性和控制，该单元实现了一致和可靠的结果，使其成为高级和精密应用的理想蚀刻解决方桉。
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