二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #293820215 待售
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ID: 293820215
Metal etcher
Keyboard
(2) AMAT Heat exchangers
VHP-compatible robot with Fabworks End effectors
Vaporized Hydrogen Peroxide (VHP)
CHA and CHB Assemblies with VAT-TGV Pendulum valves
EBARA Pump interface
VME Rack
(2) PCs
Cart
(2) Monochromators
(2) LCD Monitors
Wall mounts
CENTURA Platform
Load locks
Umbilical cables
Wafer slide-out
Three-way switch
Coax cable
Pumps:
Etch chambers: EBARA A30W
ASP chambers: EBARA A70W
LL: EBARA A30W
Buffer chamber: EBARA A30W
Gases:
Chamber A: Cl₂ / BCl₃ / CHF₃ / Ar / N₂
Chamber B: Cl₂ / BCl₃ / CHF₃ / Ar / N₂
Chamber C: CF₄ / O₂ / N₂ / H₂O
Chamber D: CF₄ / O₂ / N₂ / H₂O.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS（干等离子体设备）是一种设计用于半导体制造应用的高性能蚀刻/灰度系统。它主要用于介电和多晶硅蚀刻以及图样、掺杂沉积和氧气灰化。AMAT DPS单元由高效等离子体室、三区调温机和保形气流通道工具组成。蚀刻/asher室装有等离子体源和离子源，用于生成等离子体。腔室壁上的两个气体入口被用来将蚀刻/asher气体引入等离子体反应区。它还具有集成的排气资产和用于优化等离子体性能的高性能组件。室内精确的三区调温模型保证了温度波动最小的均匀热分布。温度范围从-100 °C到+200 °C,并且可以根据应用进行变化。保形气流输送设备保证了气体分布的均匀性。气体沿腔壁的多个点被引入，提供了优化的蚀刻/灰化结果。APPLIED MATERIALS DPS系统具有多种控制选项。它具有用户友好的图形用户界面，可以完全控制所有参数，如等离子体压力、气流、温度和基板偏差。DPS单元具有先进的监控机器，允许用户实时分析关键流程参数。这确保了对蚀刻/灰度处理过程的精确控制。该工具能够处理多种基材材料如硅、铝、钛、铜、铁和沉积膜如铜和铝。它可用于多种半导体制造工艺，包括金属氧化物半导体（MOS）器件、绝缘子上硅（SOI）器件和多级互连。AMAT/APPLIED MATERIALS DPS 蚀刻/asher资产是一种高级的蚀刻和灰化工艺模型,可确保高质量的结果。通过对蚀刻速率和保形气流通道的精确控制，AMAT DPS设备对有效的蚀刻和灰化过程提供了无与伦比的过程控制。它是各种半导体制造工艺的理想系统。
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