二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS2 #9384037 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS2
ID: 9384037
晶圆大小: 12"
Etcher, 12" Multi chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS2是一种用于半导体和平板显示器应用的高精度等离子体蚀刻器/asher。该蚀刻器利用高峰值功率等离子体源和获得专利的电介质板,实现了极精确的蚀刻和灰化效果。结果具有很高的可重复性,从晶圆到晶圆的蚀刻速率最大变化为5%。AMAT Centura DPS2非常适合各种IC和FPD应用程序,例如创建通道、触点和框形状。该蚀刻器的精确和可重复的结果使得它非常适合精细的结构。DPS2的最大晶圆尺寸为200毫米,腔室尺寸最多可容纳十二个基板。该DPS2提供多种功能,以确保精确蚀刻和灰化。蚀刻器同时配备了电容耦合和高频电感耦合等离子体源,允许广泛的等离子体密度和蚀刻速率。专利的介电板被用来提供对等离子体的屏蔽,从蚀刻器的壁,确保一个均匀蚀刻跨越晶片。此外,板的独特设计防止介电溅射,否则会造成晶圆的污染。DPS2还提供整个蚀刻过程的温度控制和均匀性。蚀刻器的温度可设置至600 °C,允许精确退火和氧化操作。该系统还具有紧凑的循环冷却系统,使整个蚀刻器的温度保持均匀,并在目标设置范围内。该DPS2通过嵌入式自动化功能引入了其他优势。除了设置和监控蚀刻过程外,包含的软件还提供用户定义、基于参数的配方开发和实时流程监控。该软件可轻松添加工艺步骤和定制配方,从而实现高效、精确的蚀刻。总体而言,APPLIED MATERIALS Centura DPS2是为高级半导体和FPD应用而设计的高精度蚀刻器和asher。其独特的特性组合,包括介电板、温度控制、均匀性和自动化功能两个等离子体源,使其成为广泛设备的理想蚀刻解决方桉。
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