二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly #293659650 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly是一种蚀刻器/asher,专门设计用于在Si、SiGe、SiC和GaAs等多种基材中处理蚀刻/带状、间隙填充和平面化高长宽比的通孔和触点。它配有两个独立的腔室，用于完整的工艺控制，允许在同一晶片上同时进行蚀刻和剥离。腔室可以支持10英寸或12英寸的晶片，使其与集成电路（IC）制造过程中最常用的晶片尺寸兼容。AMAT Chamber for Centris SYM3 Poly配备了自动化的过程控制系统,旨在优化过程产量和周期时间。它提供了高度的流程一致性和可重复性,同时还实现了实时质量控制和反馈。该室的用户界面是为易于使用和工艺优化而设计的。它提供快速配方设置、实时配方调整和配方监控功能。此外，腔室能够在过程之前和过程中运行均匀性检查，以确保高产量和吞吐量。用于Centris SYM3 Poly的APPLIED MATERIALS Chamber配备了多种改进工艺质量的功能,包括用于改进接触和间隙填充的热气加热器设计,以及用于高度测量的激光干涉测量系统。该室还提供多种气流管理和压力控制选项，以实现先进的蚀刻回填和间隙填充配方。Chamber for Centris SYM3 Poly旨在提供高精度工艺,以支持下一代IC的开发。这个最先进的会议厅提供了最佳的工艺性能、用户灵活性和提高的产量。结合精确的加工参数和清洁的加工环境，这种蚀刻器/asher能够为大多数IC制造要求产生一流的结果。