二手 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2 #9395535 待售

ID: 9395535
优质的: 2013
Poly etcher AP Frame TM Robot: VHP Process module: (3) MESA T2/RF (Etcher) Process gases: SiCL4, HBR, C4F8, NF3, SF6, CL2, CF4, CHF3, O2, N2, Ar, He EFEM: (3) FOUPs CYMEHCS Duraport-DE2 KAWASAKI 3NT520B-A006 Controller PIPER VAC A100L TMP: (3) EDWARD STP-XA3203CV (3) IH1000C RF Generators: AE APEX1513 AE APEX3103 2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2是一种蚀刻器/asher,用于进行各种工艺,如蚀刻、ashing、ashing选择性和同时蚀刻-ashing介质。这种设备特别适合半导体和微电子制造。它有一个双模块操作,使用一个集成的处理室提供快速和高效的传输基板之间的等离子体蚀刻和灰化室。AMAT DPS G5 MESA T2 asher-etcher还具有内置的机器人转移系统,使设备操作员能够将基板从一个腔室快速移动到另一个腔室。这个单元还包括一个温度控制器,可以编程为同时保持多个基板的精确温度。此外,控制器还提供优化的压力和温度设置,以实现最佳的过程控制和均匀性。在APPLICED MATERIALS DPS G5 MESA T2的蚀刻室内,该机利用先进的蚀刻反应器技术实现了介质的精确蚀刻。这些反应堆技术包括直流电技术、脉冲栅极技术、离子回旋共振技术、电子回旋共振技术。这些技术结合了使用高功率射频波形和频率,以确保基板可以以最高精度和速度蚀刻。DPS G5 MESA T2 asher-etcher还具有先进的Asher反应堆技术。这种Asher反应堆技术利用温度和压力的结合,为基板的高效粉刷提供了一个统一一致的环境。Asher反应堆还利用狭缝喷嘴精确输送过程中使用的惰性和反应性气体。这项技术也确保不会因气体流动而发生死区,从而提供基板的均匀灰化。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 MESA T2工具为蚀刻和灰化技术提供了全面的解决方桉。它结合了先进的等离子体蚀刻器和asher反应器技术,确保了蚀刻和灰化过程的最高精度和速度。它的高级控制器还可以对精确的温度和压力进行编程和保持,以确保在各种基板上均匀一致的结果。此外,它的自动化机器人转移资产确保了基板在蚀刻室和灰化室之间的高效运输。该模型是半导体和微电子制造工艺的理想选择。
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