二手 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9152529 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3
ID: 9152529
Poly etcher, 12" (3) Process chambers & AXIOM Factory interface: Front end PC type: 4.0 FEPC FIC PC Type: CPCI (3) Load ports A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot Side storage: Right and left Mainframe: IPUP Type: ALCATEL A100L Gas panel type: Standard VHP Robot: Dual blade MF PC Type: CL7 Chamber: Chamber A / B / C: Chamber model: DPS II Poly Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz Bias match: AE 13.56 MHz, 3kv navigation Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation Turbo pump: STP-A2703CV Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320 FRC: MKS FRCA-52163310 ESC: Dual zone ceramic ESC End point type: EyeD IEP AXIOM Chamber: RF Source: AE RAPID-OE PLASMA Sourse VODM: N/A Throttle valve: MKS 683 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3是一种高性能、多应用、多晶片蚀刻器/asher设备。它被设计为处理范围广泛的材料,包括III-V化合物、绝缘体硅(SOI)、金属氧化物半导体(MOS)、砷化​​氙(GaAs)、磷化铵(InP)和有机材料。它提供多种蚀刻技术,包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、反应性离子蚀刻(RIE)和远程等离子体清洗(RPC),用于先进的设备制造。AMAT DPS II AE G3可确保在单个基板上对多层薄层材料和多个设备进行精确、可重复、高通量的蚀刻。它提供了先进的控制系统,用于精确和精确的工艺,以生产用于设备制造的严格控制的高质量结构。该机采用高密度感应耦合等离子体(ICP)源,提供了更好的蚀刻选择性,增加蚀刻速率和提高均匀性。它配备了一个封闭的Ultraflex®装载机机器人,能够转移任何大小、形状或重量的部件。系统数据由流程反馈单元(P-Feffection)收集和监控,该单元提供实时数据记录、流程数值建模和控制。数据和机器性能与AMAT软件平台相结合,提供了一个自动测量、跟踪和报告蚀刻和清洗过程的工具。该软件还包括一个拖放配方编辑器、即时流程可调节性和其他高级功能,以实现用户的可编程性和控制性。APPLIED MATERIALS DPS II AE G3旨在提供卓越的过程控制和可重复性,非常适合生产环境。APPLICED MATERIALS DSPS II AE G3是一款功能强大的蚀刻器/asher,非常适合高性能和高效的设备制造。它提供了一整套高级功能,旨在最大限度地提高吞吐量,减少浪费,同时在蚀刻和清洁过程中保持精度和可重复性。从单晶片蚀刻到多晶片蚀刻,DPS II AE G3是满足各种应用中的高级蚀刻需求的完美解决方桉。
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