二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 #9263764 待售
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ID: 9263764
System
(3) A-Si Process chambers
Substrate size: 1100 mm x 1300 mm
(3) Susceptors : Temperature <230°C
(3) Load locks: DSSL
Dual arm vacuum robot
(3) MKS RPSC
EDWARDS Neptune Abatement
(3) RF Generators: 40 MHz (4KW)
(3) Gas panels: NF3, Ar, N2, SiH4, H2, PH3, B2H6
J&R AUTOMATION Loader
Includes:
(2) Abatement systems
Power supply rack
Transformer
Heat exchanger
Exhaust fan module
Gas panel module / Rack
Main AC cabinet
Remote AC cabinet
(3) PECVD Process modules
Loadlock Module
Monolith module (Transfer chamber)
Robot
Robot enclosure (with misc, panels and trays)
Robot substrate storage module
Loader modules
(2) Loader controllers
Wafer cassette loader
Vacuum forelines
Piping
Seismic brackets
Pump racks
Umbilicals
Brackets
Crane adapter
Does not include:
(3) EDWARDS iXL500Q Pumps
(3) EDWARDS iXH3030 Pumps.
AMAT/APPLIED MATERIALS G5是一种精密蚀刻/灰化工具，用于半导体制造和封装。它是为高效的光刻图桉、蚀刻和灰烬清洗而设计的。AMAT G5采用多合一设计,具有易于使用的用户界面和高吞吐量能力。它还配备了低功耗和低维护设计，以及多种可定制的处理选项。APPLICED MATERIALS G5提供半标准及宽阔的底层製程腔室，使其适合各种蚀刻/灰化製程要求。它基于射频（RF）和等离子体源,能够同时进行蚀刻和灰分清洁,从而在薄层介电材料中产生明确的图样。其可控变频27-250kHz范围使微米级精度特征的蚀刻更加可靠、准确。此外,G5还提供卓越的晶圆吞吐量和工艺一致性.它具有嵌入式晶片盒和集成的自动加载端口,旨在确保晶片传输始终成功。其自动晶片处理系统提供了在10秒内在不同盒式磁带之间移动晶片的灵活性。其可调晶圆支撑悬架允许处理范围广泛的晶圆尺寸。AMAT/APPLICED MATERIALS G5还配备了几个现场监测功能，可快速检测和识别低温和工艺非均匀性。其最先进的气体分配系统提供精确、均匀的流量控制，以及优越的气体对基质条件。最后，通过其"热墙"等离子体密封系统和"主动表面源清洁"功能增强了其内置的安全和污染防护能力。总而言之,AMAT G5是一种功能强大的蚀刻/灰化工具,用于在薄层材料中可靠地生产精确和高性能的图样。其高效率的处理能力和坚固的工程设计使其适合于微型特征的可靠蚀刻/粉刷和较短的周期时间。APPLIED MATERIALS G5还提供卓越的晶圆吞吐量、可靠的工艺一致性以及易于调节的压力、温度和气体流量设置。
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