二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Mesa II #293823495 待售
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ID: 293823495
Polysilicon etcher
Mainframe
(8) Chambers
(6) MESA2 Process chambers
(2) Strip auxiliary chambers
Application: Titanium nitride deposition.
AMAT/APPLIED MATERIALS MESA II，又称蚀刻器/asher，是一种前沿的半导体加工工具，设计用于在高性能电子器件的制造中执行关键功能。属于等离子体蚀刻器家族，在半导体工业中广泛用于半导体晶片上薄膜的精密和受控蚀刻。AMAT MESA II设备的核心是一个高密度等离子体室，利用反应性气体和射频能量的组合，从晶圆表面选择性蚀刻或灰分材料。这个过程的主要目的是在晶圆上定义错综复杂的模式和结构，构成电子电路和器件的基础。APPLIED MATERIALS MESA II系统具有先进的技术和创新的设计元素,有助于其高性能和可靠性。一个关键特征是使用双频射频源，它可以精确控制等离子体特性并增强过程灵活性。这使设备能够实现更好的蚀刻速率、均匀性和选择性,从而提高设备性能和产量。Mesa II机的另一个重要方面是其精密的气体输送工具，确保精确控制过程中使用的反应性气体的流量和溷合比。这使资产能够根据特定的工艺要求量身定制等离子体化学,从而实现优化的蚀刻轮廓和最小的侧壁损坏。为了进一步加强过程控制和可重复性，AMAT/APPLIED MATERIALS Mesa II模型配备了先进的端点检测能力。这使设备能够实时准确监控蚀刻过程的进度，并在达到所需蚀刻深度或端点后可靠地终止该过程。除蚀刻能力外，AMAT Mesa II系统还具有asher功能，用于从晶圆表面去除光刻胶和其他有机材料。这是半导体制造过程中的关键步骤，因为它为随后的处理步骤，如沉积和离子植入准备晶片。APPLIED MATERIALS MESA II单元的设计考虑到易于使用和维护,具有用户友好的界面和坚固的结构。它还提供高级流程监视和诊断功能,使操作员能够快速识别和诊断处理过程中可能出现的任何问题。总体而言,Mesa II 蚀刻器/asher代表了一种最先进的半导体制造商解决方桉,旨在实现精确可靠的高性能蚀刻和灰化工艺。它具有先进的功能、创新的设计和卓越的工艺控制功能,使其成为在竞争激烈的半导体市场上生产尖端电子设备和确保高设备产量的重要工具。
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