二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Metal chamber for Centura DPS II 532 #293665695 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Metal chamber for Centura DPS II 532
ID: 293665695
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
12" 2004 vintage.
用于Centura DPS II 532的AMAT/APPLIED MATERIALS金属室(一种蚀刻器/asher)为半导体和MEMS器件的制造提供精确和可重复的工艺控制以及精密蚀刻和粉刷。该腔室由三层粘合不锈钢组件构成,以坚固耐用的方式提供优异的耐腐蚀性能和热调节,在长时间的使用中具有良好的重复性能。该腔室容积为5.32升(1.4加仑),运行温度高达230摄氏度(446华氏度)。该室采用创新的三室重迭盖设计,为用户提供性能、精度和耐用性无与伦比的组合。重迭的盖子确保了工艺参数的均匀分布,同时为改进热控制和均匀性提供了更大的工艺空间。Centura DPS II 532腔室具有电子流量控制、温度、压力、流量均匀性、气体净化以及风扇速度和移位设置,用于监控和控制过程。此外,该腔室还提供精确的等离子体均匀性和加工端点均匀性.该室还有一个集成的石英侧罩,一个惯性驱动快门,过程气体流动和控制排气,并且能够高壁和低壁功率传递。Centura DPS II 532还拥有先进的等离子体控制技术,可编程用于放热和吸热过程控制,提供最佳晶圆均匀性和可重复性。先进的等离子体控制提高了吞吐量,同时能够保持低蚀刻率和高吞吐量。除了先进的等离子体控制外,Centura DPS II 532还具有多层的碳氟化合物密封系统,可确保环境超压,防止任何酸性气氛进出腔室。这提供了出色的过程稳定性和一致性。Centura DPS II 532旨在满足半导体、MEMS和制造市场不断变化的需求。Centura DPS II 532从抗蚀条、薄膜蚀刻/灰分和钝化到图桉化和高宽高比蚀刻/灰分,提供了精确和可重复性,以确保最高质量和一致的最终产品。
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