二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Plasma II #293604234 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Plasma II Asher/Etcher是一种用于清洁和蚀刻基板的工业设备。该系统由一个密封室、一个电源、控制装置和一个气体输送装置组成。腔室由气体循环机冷却，使腔室保持低温，有助于防止氧化，并允许改进过程控制。该工具旨在提供精确和可重复的等离子体蚀刻工艺。蚀刻过程涉及利用高频射频（RF）能量将一种气体，典型的是一种加在一起的氙气、氧气和氟气转化为等离子体。然后将等离子体引向基材，在基材上蚀刻掉杂质，提供干净而均匀的表面。AMAT Plasma II Asher/@@Etcher所使用的电源设计为提供高RF能量，并有广泛的频率，包括13.56 MHz、2.45 GHz和27 MHz。这允许用户根据自己的特定需求自定义蚀刻过程。电源还允许用户设置等离子体功率水平，让他们控制蚀刻深度。气体输送资产用于控制蚀刻过程中使用的气体类型和数量，能够输送高低气体压力。这允许对不同的蚀刻过程进行调整。气体流量是可调的，以及所使用气体的类型和纯度。还必须正确设置控件,以确保根据需要进行蚀刻过程。用户可以设置各种参数，如工艺时间、气体流速、等离子体功率和改变工艺条件的屏幕指令。APPLICED MATERIALS II Asher/Etcher能够产生优异的效果，为用户提供干净、均匀的蚀刻基板，零件之间没有差异。该型号能够蚀刻硅、玻璃、石英等各种材料，提供多种用途。它是一种可靠的设备，维护要求低，非常适合研究和工业实验室的各种蚀刻工艺。