二手 AVIZA Sigma FxP #293823281 待售

ID: 293823281
PVD system Frequency: 60 Hz Voltage: 400 V (2) CSW-61 Cryo-compressors (4) KASIYAMA MU100 Dry pumps MKS GE50A Mass Flow Controllers (MFC) CDA (Clean Dry Air) Cooling system PFEIFFER HiPace 300 Turbo pump PFEIFFER HiPace 700 Turbo pump GTM-OS Transport module Front monitor: trolley Rear monitor: laptop Paramount RF PSU (PM2) Power supply RFA-600A (PM3) Power supply Ascent units: 20 kW Magnetrons Shutters Resistor banks Platen: SP-CrOx Wafer lift rings Wafer retainers Pins VX Aligner (AUX – Left) GEM Interface SECS / SECS-II Communication interfaces Cables HE Leak port Hoist Rev B MM.
AVIZA Sigma FxP是为半导体制造工艺设计的高性能蚀刻器/asher设备。这一尖端工具集成了先进技术,提供精密、均匀的蚀刻和灰化操作,对于制造集成电路和其他微电子器件至关重要。Sigma FxP系统提供了一整套功能和特性,使半导体制造商能够满足现代设备制造过程的严格要求。AVIZA Sigma FxP单元的核心是其坚固的等离子体处理室,为各种蚀刻和粉刷应用提供了受控环境。腔室配有高频射频等离子体源,产生稳定的等离子体放电,方便高效的物料去除和表面清洁。等离子体源能够产生广泛的化学物质,使用户能够为特定的装置结构和材料选择最佳的工艺气体和参数。Sigma FxP机器的主要优点之一是它在支持多重蚀刻和粉刷技术方面的多功能性。该工具可以同时执行干蚀刻和等离子体灰烬工艺,为解决半导体制造中的不同工艺要求提供了灵活性。干蚀刻通常用于精确去除半导体晶片上的特定材料层,而等离子体灰烬则用于在随后的加工步骤之前去除残留物和制备表面。AVIZA Sigma FxP资产配备了高级流程控制功能,以确保生产运行过程中的结果一致且可重复。该模型具有实时监控和反馈机制,使用户能够即时优化过程参数,并保持对蚀刻和灰度性能的严格控制。此外,该设备还集成了智能软件算法,提高了过程的稳定性和可靠性,最大限度地减少了设备制造中的变化和缺陷。除了流程控制功能外,Sigma FxP系统还提供一系列自动化功能,可提高运营效率和吞吐量。该单元旨在无缝集成到半导体制造系列中,简化生产工作流程并缩短周期时间。自动化的装卸机制允许快速处理晶片,而机械臂则允许在加工室之间进行原位晶片转移以进行连续操作。此外,AVIZA Sigma FxP机器还集成了高级安全功能,以确保操作员在处理过程中的保护和设备完整性。该工具配有联锁和传感器,用于监控腔室压力、气体流速和等离子体条件等关键参数,以防止潜在危害,维护安全的操作环境。此外,该资产采用内置的紧急关闭程序和安全协议进行设计,以便在模型发生意外故障时降低风险。总体而言,Sigma FxP设备为寻求高性能和可靠等离子体处理能力的半导体制造商提供了最先进的蚀刻器/asher解决方桉。凭借其先进的技术、全面的功能和强大的设计,AVIZA Sigma FxP系统使半导体制造商能够在当今要求苛刻的半导体制造领域实现高产率、优越的设备质量和提高的工艺效率。
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