二手 AXCELIS / FUSION ES3 #9389468 待售

AXCELIS/FUSION ES3是在半导体工业中广泛用于深亚微米RIE（反应性离子蚀刻）和灰化应用的等离子体设备的蚀刻器/灰度模型。该模型具有宽阔的底座和专门的腔室，旨在减少因环境变化而导致的工艺参数变化。FUSION ES3利用多气体流量控制设备，采用革命性的逐步"排气喷射系统"，进一步提高了性能和工艺产量。在等离子体过程中，室内温度通过一个独特的垂直热隔离装置来稳定，从而进一步提高过程的重复性和稳定性。AXCELIS ES3的关键部件是工艺室、电子回旋共振（ECR）源、主动泵送、废气喷射机和软件套件。铝合金室的设计和建造采用坚固的鳍片结构,可确保较低的热质量和最大的排气速度,从而最小化气体消除循环时间。为了与光刻和真空工具流体兼容，对腔室进行了进一步的设计。此外，该模型还具有先进的ECR源，有助于在整个蚀刻/灰化过程中保持恒定的等离子体条件。主动抽水设备有效地将腔室排空到可接受的压力水平，并保持与零件速度和负载相关的所需工艺条件。该模型还支持压力波动最小化的可重复操作。该型号的废气喷射设备使用来自废气长矛的变频气体运行，允许自动控制工艺室内的废气密度。此功能有助于保持整个腔室均匀性更好的工艺条件。此蚀刻器/asher的软件套件显着减少了设置和处理时间,提供了一个用户友好的界面,简化了对过程参数和频率设置的访问。它还包括通过"Q Monitor"功能进行的测量和分析功能,该功能有助于跟踪蚀刻/灰分操作期间的关键变量。软件还会在任何进程参数达到关键或不安全限制时向用户发出警报,以提供对进程的全面控制。总体而言,ES3 蚀刻器/Asher提供了广泛的基础选项、设计的腔室、先进的ECR源、主动泵送、排气喷射和强大的软件套件,使其成为深微RIE和Ashing应用的强大而可靠的工具。因此，它是半导体行业及相关业务的理想解决方桉。