二手 AXCELIS / FUSION Gemini GES AIM #293815341 待售

AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM是一种用于半导体加工的蚀刻器/asher。该设备专为先进的光刻技术而设计，可实现高纵横比特征的深Si蚀刻。它利用FUSION Gemini高功率ICP源,提供一流的蚀刻速率功能和更高的吞吐量。该系统配有最多六个工艺气源的辅助气体单元、三区多晶硅蚀刻室、原位等离子体端点检测机、精确剂量控制的束导工具。采用先进的冷盘设计,保证晶圆的均匀冷却.FUSION GEMINI GES AIM的主要优点是能够将高纵横比特徵刻蚀进半导体深层，以及高通量能力。资产的ICP源实现最大蚀刻速率能力，这比其他蚀刻系统快得多。利用三区多晶硅蚀刻室和原位等离子体端点检测模型，实现了亚微米层的精确蚀刻。此外，它的光束引导设备确保精确的剂量控制，允许更深，更复杂的蚀刻晶圆。AXCELIS GEMINI GES AIM还具有高度可配置的控制平台,使用户可以灵活地定制和优化其蚀刻过程。该系统的辅助气体单元为用户提供最多六个工艺气源，允许更多变化的工艺参数。此外，该机还采用了寒板等最新的热管理技术，实现了晶片的均匀冷却。总体而言,GEMINI GES AIM是一种高级蚀刻器/asher工具,可提供令人印象深刻的蚀刻速率功能和更高的吞吐量。其ICP源允许快速蚀刻高长宽比功能，其可配置的控制平台为用户提供了自定义蚀刻过程的灵活性。资产的辅助气体模型和冷却板设计确保晶圆的精确蚀刻和均匀冷却。AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM凭借其先进的功能，是任何半导体生产环境中高效可靠的解决方桉。