二手 BRANSON / IPC RIE #161812 待售

BRANSON/IPC RIE（反应性离子蚀刻）是一种用于制造半导体和微机电系统（MEMS）的蚀刻器/asher。它是一种高精度的等离子体蚀刻器，灵敏度广泛，通量高，拥有成本低。IPC RIE的工作原理是将RF Energy产生的等离子体沉积到基板表面上，在基板表面迅速将微观特征蚀刻到材料中。BRANSON RIE配备了3.5 kHz至130 MHz的频率范围，并提供了广泛的气体类型、射频控制和过程控制能力，允许精确和可重复的结果。RIE利用0.5-100 mTorr的腔室真空，每个腔室能够达到10-5和10-6 Torr的真空，足以进行精密蚀刻和沉积。该腔室能够处理多达25次的射击，并且可以以各种模式运行，例如Argon、CF4、Cl2、O2和专用等。BRANSON/IPC RIE还具有集成的MCMT工艺,能够通过顺序和同时双向蚀刻进行蚀刻。这样可以改进轮廓控制、过程可重复性和极快的处理时间,同时保持良好的特征分辨率和表面光洁度。IPC RIE还提供了一个可调节的压力控制系统，它允许用最小的努力轻松调整。BRANSON RIE是一种可靠、坚固的蚀刻器，可用于各种应用，如沉积薄膜和MEMS器件、蚀刻沟槽、凹槽和vias以及蚀刻其他材料，包括蓝宝石、铝和硅，允许制造复杂和高精度的器件。RIE用户友好，与湿蚀刻系统相比具有广泛的技术优势。综上所述，BRANSON/IPC RIE是一种用于制造半导体和MEMS的高性能蚀刻器/asher。它为用户提供了广泛的功能和过程控制能力，包括使用各种气体类型和射频控制进行蚀刻和沉积的能力。它还提供了快速的处理时间、可重复性和可调节的压力控制，使其成为许多不同应用的完美工具。