二手 CANON / ANELVA ILD 4002 #9111252 待售

CANON/ANELVA ILD 4002是一款先进的蚀刻器和asher设备，设计用于半导体、MEMS和光电行业的深层反应离子蚀刻（DRIE）应用。该系统能够精确、控制地完成蚀刻和等离子体操作。CANON ILD 4002具有一系列全面的工艺参数,能够在多种材料上进行复杂的特征蚀刻。这种蚀刻单元适用于多种难以蚀刻的材料，从砷化氙（GaAs）到多晶硅。ANELVA ILD 4002先进的双室蚀刻机设计为精确、可重复的深度蚀刻能力。该蚀刻器具有优化的射频（RF）匹配和耦合功率,而高压蚀刻环境允许在一系列基板中进行高速率蚀刻。它还具有多种配件选项,为不同的蚀刻和灰化操作提供了灵活性。ILD 4002上创新的腔室设计减少了污染的可能性，同时允许方便地接触基板。这种紧凑的蚀刻器和asher工具能够对各种材料进行深度蚀刻操作。它还提供高精度的灰化功能,以满足精密蚀刻和灰化要求。CANON/ANELVA ILD 4002的创新设计确保了低工艺温度、低除气和最小污染的蚀刻和灰化操作。CANON ILD 4002提供了一系列的生产力和高精度的蚀刻和灰化能力。它具有纳米级蚀刻功能,可实现50纳米以下的功能。此外，该资产具有低温蚀刻能力，蚀刻速率高达350 nm/min，蚀刻后清洗工艺。该模型还提供了各种可靠的蚀刻过程和特征功能,包括精细的选择性控制、高达2,500 nm/min的蚀刻速率以及缺陷抑制过程。ANELVA ILD 4002也具有16英寸晶圆的能力，能够进行直接晶圆处理。总而言之，ILD 4002是一种先进的蚀刻器和asher设备，旨在满足深反应离子蚀刻（DRIE）应用的苛刻要求。它提供了高精度的蚀刻和灰化功能,以及高达50 nm的纳米级蚀刻功能和功能。该系统还具有各种强大的蚀刻过程和功能,包括蚀刻后清洗过程和缺陷抑制过程。