二手 CANON / ANELVA ILD 4033 #9111258 待售

CANON/ANELVA ILD 4033是一种复杂的反应性离子蚀刻和大气压干蚀刻（APDE）设备，可以在多个研究领域提供精确分析。该系统专门用于金属、半导体和其他化合物等材料的蚀刻。CANON ILD 4033单元有一个集成的多级晶圆/基板装卸机，设计用于在真空气氛中工作，不需要额外的装卸和运输工具。该资产包括一个主轴、一个表、一个机器人臂和其他组件，以快速可靠地从加工室装卸晶片。该模型还提供了一个可选的氮气歧管，用于处理气体和晶片温度控制，整体晶片选择和离合器系统，以精确和安全地处理晶片。ANELVA ILD-4033设备能够进行反应性离子蚀刻（RIE）和大气压干蚀刻（APDE）。它配有静电卡盘以牢固地固定晶片，并在电极环之间通过等离子体放电。RIE工艺最常用于蚀刻材料，如硅、砷化​​氙和其他化合物半导体。APDE工艺常用于蚀刻铝、金属氧化物半导体（MOS）和金属绝缘体半导体（MIS）结构。对于RIE和APDE工艺,ILD-4033系统都提供可选的石英牵开器,以保持材料的均匀性并减少蚀刻症状。此外,该设备还配备了一个功能强大的数据记录控制站,该控制站还负责控制流程参数、监视晶圆温度并允许用户手动覆盖任何流程设置。该控制站与配方编程完全兼容，可以方便地实时监控晶圆细节。CANON/ANELVA ILD-4033是一台在蚀刻过程中功能极其强大的机器,它提供了W/M、VO和O2兼容工艺以及压力、温度和光致抗蚀剂兼容工艺。该工具的强大设计和高度先进的组件允许在各种材料上进行从亚微米蚀刻到深层蚀刻的蚀刻。总体而言，ANELVA ILD 4033反应性离子蚀刻和大气压力干蚀刻（APDE）资产是一种非常先进的模型，旨在提供金属、半导体和其他化合物的精确和可靠蚀刻。该设备利用强大的数据记录控制站和各种蚀刻工艺,为研究应用程序提供世界级的蚀刻性能。