二手 CANON / ANELVA ILD 4100 #9262531 待售
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CANON/ANELVA ILD 4100 蚀刻器/asher是一种先进的等离子体技术设备，设计用于蚀刻和灰化晶片、抗蚀剂、聚合物、电介质和半导体工业中使用的其他材料。它装有装有等离子体反应器、绝缘等离子体护套和氮化物沉积系统的腔室。该装置的离子源是一种线性离子加速器，能够在功率降低的情况下将各种材料的离子加速到每厘米250伏的速度。该机具有可变气体淋浴，为精密蚀刻和灰化过程提供受控环境。此外，CANON ILD 4100具有宽阔的液压室和闭环气体循环工具，使资产保持恒定的离子浓度，同时保持均匀的蚀刻和灰度深度。该模型非常适合各种蚀刻和灰化工艺。这些包括沟槽蚀刻、隔离蚀刻和表面钝化蚀刻。它也适用于表面轮廓的修改，如浅层和深层激光退火，表面处理，分层，金属沉积和离子植入。此外,ANELVA ILD-4100能够执行高度精确的蚀刻和灰化过程,具有很高的可重复性和可重复性。ILD-4100提供了一个集成的离子束植入和光刻设备，允许光刻过程进行原位与蚀刻和灰化。该系统的控制单元易于使用，允许操作员调整各种参数，以提高工艺效果。机器还配备了各种安全功能，如惰性气体备用工具，以及其他保护腔室和资产部件免受污染的功能。该模型能够支撑各种气体，从氮气到氙气和氧气。该设备还能够与清洁、化学气相沉积（CVD）工艺和其他原位工艺等现有工艺相结合，与行业标准程序相兼容。ILD 4100能够生产高质量的零件,具有卓越的产量,而不会牺牲生产速度或成本。它还具有高度可靠、耐用、易于维护以及与当前行业实践和设备兼容的特点。总体而言，ANELVA ILD 4100是一种先进的蚀刻和灰化系统，非常适合半导体行业的各种等离子体蚀刻和灰化工艺。它提供精确的控制、灵活性和可重复性,以及出色的安全功能。它的功能意味着它是市场上最可靠和用户友好的蚀刻和灰化系统之一。
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