二手 CORIAL ICP Etcher #293758417 待售

CORIAL ICP Etcher是一种尖端的等离子体蚀刻设备，设计用于从半导体基板中精确高效地去除材料层。此创新工具将感应耦合等离子体（ICP）技术与先进的过程控制功能集成在一起,可在各种材料和应用中提供卓越的蚀刻性能和卓越的过程均匀性。ICP Etcher的核心是它的高密度等离子体源，由射频（RF）电源与在过程室中感应强电磁场的线圈耦合产生。这种ICP源产生一种高度电离和高能的等离子体，这对于实现高蚀刻速率同时保持极好的选择性和侧壁轮廓控制至关重要。ICP源独立于工艺压力运行，允许精确调整离子能量和方向性，以优化不同材料和几何形状的蚀刻参数。CORIAL ICP Etcher中的等离子体蚀刻过程涉及反应性气体分子和离子与底物表面的相互作用，导致物质层通过一系列复杂反应的物理和化学去除。该系统配有气体输送单元，允许精确控制加工气体，如蚀刻剂、前体和稀释剂，为特定材料堆栈和装置结构量身定制蚀刻化学和选择性。此外，该机采用专用的喷气淋浴台设计，确保在蚀刻过程中气体分布均匀，副产品清洗效率高。ICP Etcher提供了广泛的蚀刻模式，包括各向同性、各向异性和溷合蚀刻，以适应各种设备设计和图桉要求。刀具的加工室配有静电卡盘（ESC）,在蚀刻过程中将基板牢固地固定在适当的位置,便于进行温度控制的高效传热。该ESC可以有偏差的控制基板充电效果和提高整个晶片表面蚀刻均匀性。为确保精确的过程控制和监控，CORIAL ICP Etcher配备了先进的等离子体阻抗匹配网络和RF功率控制资产，可根据等离子体条件和工艺要求不断调整传递给ICP源的功率。该模型还具有实时端点检测能力，如光发射光谱（OES）和激光干涉测量，以准确监测蚀刻速率并检测蚀刻过程的完成。除了先进的工艺能力外，ICP Etcher还设计了用户友好的软件界面和直观的配方管理设备，可以方便地设置和优化蚀刻工艺。该系统的自动化功能使基板的高通量处理能够以最小的操作员干预,使其成为研究和生产环境的理想解决方桉。总体而言,CORIAL ICP Etcher是一款最先进的等离子体蚀刻工具,它结合了尖端技术和先进的工艺控制功能,为各种半导体制造应用提供卓越的蚀刻性能和工艺灵活性。