二手 DENTON VACUUM Infinity FA #293798635 待售

DENTON VACUUM Infinity FA是一种最先进的蚀刻/粉碎机设备，设计用于基板的精确、均匀的等离子体加工。此通用工具结合了先进的技术和用户友好的功能,可在半导体、MEMS、光学和其他行业的广泛应用中提供高性能结果。Infinity FA凭借其创新的设计和前沿的能力，是研发以及量产环境不可或缺的工具。DENTON VACUUM Infinity FA具有坚固可靠的真空室,旨在保持超高真空水平,以实现最佳的过程控制和可重复性。该腔室配备了一系列先进的安全功能，包括超压保护、真空互锁和紧急停止功能，以确保操作员在操作过程中的安全。该室还设有快速接入端口，便于维护和维修，最大限度地减少停机时间，并最大限度地提高生产率。Infinity FA的心脏是其先进的等离子体源，它在整个基板表面产生高度均匀的等离子体。这种等离子体源由高频射频发生器供电，能够精确控制功率、气流和压力等过程参数。射频发电机配备了自动匹配网络和阻抗调谐能力，确保最大功率传递效率和稳定的等离子体运行。DENTON VACUUM Infinity FA还具有一个多功能气体输送系统，可以精确控制过程气体和溷合物。该装置包括用于精确气体流量调节的质量流量控制器，以及用于制造定制气体溷合物的多气体喷射机。这种灵活性使用户能够根据自己的特定要求量身定制等离子体化学，无论是蚀刻细腻的材料还是沉积薄膜。除了先进的等离子体源和气体输送工具外，Infinity FA还配备了一系列过程监控工具，以确保一致可靠的结果。这些工具包括用于等离子体物种实时监测的光发射光谱（OES），以及用于精确控制蚀刻和灰化过程的端点检测能力。该资产还具有高级配方管理软件,允许用户对复杂的流程序列进行编程和存储,以便于检索和执行。DENTON VACUUM Infinity FA的应用非常适合广泛的等离子体处理应用，包括反应性离子蚀刻（RIE）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和等离子体清洗/灰化。其多才多艺的设计和先进的能力使其成为从事半导体、MEMS、光学和纳米技术领域尖端技术研究实验室、大学和生产设施的理想工具。结论：Infinity FA是一种非常先进的蚀刻器/asher模型，为各种等离子体处理应用提供了无与伦比的性能、灵活性和可靠性。其创新的设计、尖端的技术和用户友好的特性使其成为研究人员、工程师和制造商希望在受控真空环境中实现精确和可重复结果的宝贵工具。无论您是在开发下一代半导体器件,还是在材料科学领域进行基础研究,DENTON VACUUM Infinity FA都是满足您所有等离子体处理需求的理想选择。