二手 DNS TE-401G #293815303 待售

製造商
DNS
模型
TE-401G
ID: 293815303
优质的: 2002
Wet etcher 2002 vintage.
DNS TE-401G是半导体工业中用于精确模式转移过程的一种高度先进的蚀刻/灰度设备。该工具是制造集成电路和其它微电子器件的关键部件。TE-401G模型由半导体制造工艺设备的领先供应商DNS制造。DNS TE-401G利用先进的等离子体处理技术,在基板上蚀刻或灰分薄膜,具有高精度和重复性。它设计用于处理广泛的基材,包括硅片、玻璃、陶瓷和其他半导体制造常用的材料。该设备配备了一系列特性和功能,非常适合大批量生产环境。TE-401G是一种干蚀刻系统,这意味着它使用等离子体从基材中去除材料,而不是湿法化学过程。干蚀刻比湿蚀刻有几个优点,包括更高的蚀刻速率,更好地控制蚀刻轮廓,减少化学废物。DNS TE-401G可以执行多种蚀刻过程,包括各向同性和各向异性蚀刻,以及用于去除光致抗蚀剂的等离子体灰化过程。TE-401G具有高度可定制的工艺室,可配置各种气体输送系统、射频电源和温度控制单元,以适应不同的蚀刻过程。该单元配备了多个气体入口,以引入不同的工艺气体,例如用于硅蚀刻的氟基化学或用于光致抗蚀剂灰化的氧基化学。气流控制、射频功率调制和温度调节相结合,可以对蚀刻速率、选择性和侧壁轮廓进行精确调整。DNS TE-401G的主要特点之一是其先进的端点检测机,它实时监控蚀刻过程的进展。端点检测对于确保蚀刻停止在所需深度、防止基板过度蚀刻或不足蚀刻至关重要。TE-401G利用光发射光谱(OES)或其他技术来检测等离子体发射光谱中指示蚀刻过程完成的变化。DNS TE-401G还配备了负载锁定工具,该工具允许自动装载和卸载基板,从而最大程度地减少蚀刻运行之间的停机时间。该资产专为高吞吐量和可靠性而设计,适合全天候生产环境。此外,TE-401G还集成了高级流程控制软件,支持配方管理、数据记录和远程监视功能。综上所述,DNS TE-401G是一种高度先进的蚀刻器/asher工具,可为半导体制造提供精确可靠的处理功能。它结合了先进的等离子体技术、可定制的工艺室、端点检测模型和自动化功能,使其成为广泛蚀刻应用的通用工具。TE-401G具有较高的吞吐量和过程控制能力,是实现半导体器件制造高产率和质量的重要工具。
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