二手 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #9247828 待售
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ID: 9247828
晶圆大小: 8"
Asher, 8"
Model no: 99-0339
Install type: Tabletop
Machine runtime: 11,028 Hours
Filament runtime: 16,005 Hours
Wafer passes: 7132
Includes:
AURA 2000LL PR Strip
BOC EDWARDS NGH425100 Main chamber pump
BOC EDWARDS iQDP40 LL Pump
Microwave generator:
NATIONAL ELECTRONICS A95-045-01-E
Position: Main chamber
Gas line / Gas / MFC Make / MFC Model
1 / O2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL
2 / N2H2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL.
GASONICS/NOVELLUS Aura 2000是一种蚀刻器/asher,用于多种应用,如光刻、半导体器件制造、晶圆级封装。它旨在精确蚀刻小型特征尺寸的结构,同时在蚀刻过程中保持干净的侧壁。蚀刻过程在真空室中进行,使其成为不需要环境空气保护层的低温过程的理想选择。GASONICS Aura 2000利用多种技术实现其期望的最终结果。其中包括激光诱导的等离子体蚀刻工艺、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺、离子束蚀刻和一系列下游加工。激光诱导的等离子体蚀刻过程利用激光束和惰性气体等离子体产生精确的蚀刻模式。它产生一条锐利、干净的线条,没有边缘粗糙度,非常适合复杂的特征。PECVD工艺允许在真空环境中低温沉积硅氧化物和其他材料。这一过程非常适合创建传统技术无法实现的困难结构。离子束蚀刻通过控制过程中离子的能量、方向和速度来微调蚀刻过程。它对高长宽比(HAR)和亚微米结构特别有效。最后,NOVELLUS Aura 2000附带了一系列下游工艺解决方桉。这包括蚀刻后清洗、侧壁钝化、薄膜优化和材料分析。这样可以快速、精确地控制蚀刻过程,从而获得完美的结果。综上所述,Aura 2000是一款功能强大的蚀刻和灰化机,旨在以小尺寸制作精确、干净的蚀刻图桉。它结合了激光诱导的等离子体蚀刻、PECVD工艺和离子束蚀刻,以及板载下游加工,产生了完美的效果。
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