二手 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #9247831 待售

ID: 9247831
晶圆大小: 8"
Asher, 8" Model no: 99-0339 Install type: Tabletop Machine run time: 17,803 Hours Filament run time: 573 Hours Wafer passes: 10191 Includes: AURA 2000LL PR Strip BOC EDWARDS NGH425100 Main chamber pump BOC EDWARDS iQDP40 LL Pump Microwave generator: NATIONAL ELECTRONICS A95-045-01-E Position: Main chamber Gas line / Gas / MFC Make / MFC Model 1 / O2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL 2 / N2H2 / HONEYWELL / MIDAS-E-LEL.
GASONICS/NOVELLUS Aura 2000是一种蚀刻器/asher设备,使用射频(RF)电源在多个半导体晶圆中同时蚀刻和清洁特征深度。该系统可同时执行蚀刻和清洁功能,而无需基板或预处理。在蚀刻过程中,能量来源通常是由单位的磁控管产生的射频波。在清洗过程中,使用质态气体,例如氙气,去除蚀刻过程中产生的炉渣颗粒。GASONICS Aura 2000机器的特点是过程控制和均匀性高,这是其先进的广域等离子体源技术的结果。该技术确保射频频率均匀分布在基板上,确保均匀蚀刻和清洁。此外,它的深层等离子体源使它能够蚀刻和清洁大于75纳米的特征深度。它的超低噪声设计也使它能够取得成功的清洁效果,即使在非常小的特性尺寸上也是如此。此外,NOVELLUS Aura 2000还采用了多种先进技术,使用户能够最大限度地提高流程性能。这些功能的例子包括高速处理、高纯度操作、高级硬件和软件控制功能、高速循环时间以及远程监控功能。利用其全面的控制软件包,用户可以轻松监控和调整流程参数,以确保一致的吞吐量。Aura 2000的高级设计还允许用户根据自己的特殊需求定制工具。这种可定制性允许用户调整气流、射频功率和其他参数,以达到最佳效果。此外,它的大室和先进的加热和冷却机制提供温度控制,进一步优化硬件性能。总体而言,GASONICS/NOVELLUS Aura 2000是一种高级蚀刻器/asher资产,具有广泛的特性和功能。其射频电源、广域等离子体源以及可定制的特性使其成为蚀刻和清洗半导体晶片的理想工具。其高度的流程控制和统一性使用户能够最大限度地提高生产效率,而其高级硬件和软件功能则为用户提供了对流程的全面控制。通过使用GASONICS Aura 2000,用户可以轻松蚀刻和清洁大于75纳米的特征深度,并取得成功。
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