二手 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000LL #293605212 待售

ID: 293605212
晶圆大小: 8"
Asher, 8".
GASONICS/NOVELLUS Aura 2000是一款高性能的等离子体蚀刻器/asher,设计用于晶圆制造中的多种工艺。GASONICS Aura 2000采用高真空(HV)等离子体技术,通过提供高离子能量和高效清洁工艺室,实现了基板的超快速蚀刻和灰化。此蚀刻器可处理直径最大为12英寸的基材,加工温度最大为1000 °C。NOVELLUS Aura 2000具有多种特性,使其成为蚀刻师和占领者中的佼佼者。其专有的Ultra-High-Density Plasma技术允许有效的蚀刻和灰分速率,与其他蚀刻系统相比,该工艺时间减少了20倍之多。这意味着Aura 2000可以处理各种蚀刻类型的复杂过程,包括反应性离子蚀刻(RIE)和干等离子体蚀刻。超快的蚀刻速度加上沉积前化学钝化晶片的能力,意味着GASONICS/NOVELLUS Aura 2000可以提供一致的性能,同时降低工艺成本。GASONICS Aura 2000强大的真空室和高性能控制系统有助于降低与维持持续超高真空环境相关的间接费用。此外,先进的光学系统允许操作员使用直通查看窗口实时观察过程,从而实现快速准确的故障排除。NOVELLUS Aura 2000利用自动化和灵活的配方来确保各个工艺步骤之间的可重复性,使其在重复晶圆工艺步骤的同时保持一致。Aura 2000声称其分辨率优于4nm,使其能够为您的蚀刻和灰烬工艺带来更高的精确度,并实现纳米材料以及常规和数字图像增强。蚀刻还包括一个先进的密封,允许更高的工艺速度和产量由于减少氧化和污染。GASONICS/NOVELLUS Aura 2000是一款尖端的等离子体蚀刻器/asher,可以处理直径12英寸的各种晶圆基板尺寸。它具有专有的超高密度等离子体技术,可实现更快的处理,坚固的真空室可用于高效维护,先进的光学设备可用于实时监控,以及自动化和灵活的可重复性配方。其密封和高性能控制系统有助于降低开销成本,其分辨率比4nm高。GASONICS Aura 2000保证提供最佳的蚀刻和灰分工艺,同时降低间接费用。
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