二手 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000LL #293749487 待售

GASONICS/NOVELLUS Aura 2000LL是一种设计用于半导体晶圆加工的最先进的蚀刻/asher设备。该系统利用新的金属化学气相沉积（MNYVCD）工艺以及高密度等离子体（HDP）源将极薄的硅膜沉积到晶片上。这种超高真空（UHV）工艺创造了极均匀的沉积物，具有优异的保形特性。GASONICS Aura 2000LL单元被设计为高度可配置，并提供复杂处理参数的精确复制。其双腔室设计允许在每个腔室中实现不同的工艺配方，其先进的AutoEtch控制软件确保了最高级别的工艺一致性。其自动补偿算法进一步将粒子诱导的污染降至最低。NOVELLUS AURA 2000 LL还利用GASONICS DCS-3000源，对电离条件进行精确控制，产生非常均匀的蚀刻深度控制。它可以一次蚀刻多达20个晶片，确保所有晶片的蚀刻深度均匀。该机器能够处理各种工艺步骤，可以同时蚀刻各种特性。沉积范围从10nm到2.5um，蚀刻时间可以调整以满足您的要求。它还为不同形状和大小的蚀刻站点提供了先进的BCP掩蔽技术。该工具旨在以最少的废物进行高效操作，其自给自足的气体输送资产进一步提高了效率。它配备了自动清洗工艺，以保持蚀刻室无污染物。凭借其先进的功能和高度可配置的设计,Aura 2000LL可以提供最高级别的工艺精度和准确性。它是广泛蚀刻应用的理想选择，从基础光刻到先进的支持蚀刻的植入物（EEIs）。