二手 GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia #293752827 待售

GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia
ID: 293752827
晶圆大小: 6"
Asher, 6" Dual chamber Component configuration: Cassette unit: Cluster PCM YASKAYA XU-CM 4730 Robot controller Chamber unit: (2) Lift and right PCM (2) MISC Controllers (2) Gas controllers (2) M/W Controllers (2) Lamp controllers (2) EUROTHREM 818S Temperature controllers (2) NIKON M680 Temperature controllers (2) ASTEK D13765 M/W Generator (Right side) (2) ENI ACG-6B RF Generators (2) MKS MWH-5 RF Matchers (2) MKS MWH-R RF Matcher boxes (2) MKS 600 Series Pressure controllers (2) MKS 638B-2-50-2 Pressure valves Gas supply: Gas name / Range / Size CF4 / 200 mm / 1/4" VAC N2 / 500 mm / 1/4" VAC O2 / 500 mm / 1/4" VAC HE / 2 SLPM / 1/4" VAC NF3 / 20 CC / 1/4" VAC O2 / 50 SCCM / 1/4" VAC Purge N2 / - / 1/4" VAC Utility description: Name / Description / Unit Power (AC) / ø3, 208V, 5wire, 150A, 50/60 Hz / Power Box PCW / QC6 Connector, 4EA / Chamber VAC / ISO 80, 2EA / Chamber CDA / 3 / 8" SWG Male, 2EA / Chamber.
GASONICS/NOVELLUS PEP 3510 Iridia是一种高度先进、用途广泛的蚀刻器/asher设备,用于半导体制造过程中,用于对底物上的薄膜和残留物进行精确、均匀的去除。此工具构建在强大的平台上,旨在为大容量生产环境提供卓越的性能、可靠性和过程控制。该系统具有创新的技术和能力,使其适合半导体行业的广泛应用。GASONICS PEP 3510 Iridia的核心是其先进的等离子体蚀刻和灰化能力,能够精确控制不同材料和结构的蚀刻速率、选择性和均匀性。该单元配备了产生反应性等离子体的高密度等离子体源,允许从基板中高效和选择性去除材料层。该等离子体源与先进的工艺室设计和气体输送系统相结合,确保了最佳工艺性能和可重复性。NOVELLUS PEP 3510 Iridia提供了一系列工艺气体和化学物质,使用户可以灵活地定制蚀刻和灰化工艺,以满足特定的要求。这种灵活性对于解决半导体制造中遇到的各种材料和结构,如硅、氧化物、氮化物、金属和多晶硅,至关重要。机器的气体输送工具受到精确控制,以维持所需的工艺条件,并便于形成材料去除所必需的等离子体种类。PEP 3510 Iridia的关键强项之一是其先进的过程监控能力。资产配备了实时过程监测传感器,能够进行现场端点检测,这对于实现精确的过程控制和确保一致的蚀刻/灰化结果至关重要。此外,该模型还采用先进的硬件和软件算法进行过程优化,从而能够实时调整关键参数,从而获得所需的蚀刻轮廓和端点。GASONICS/NOVELLUS PEP 3510 Iridia专为高通量处理而设计,具有快速气体切换、快速泵降时间、高效晶圆处理能力等特点。这些功能有助于提高生产率和缩短周期时间,使设备非常适合处理过程吞吐量是关键因素的大批量制造环境。该系统的设计还便于维护和维修,确保了最低限度的停机时间和运营成本。综上所述,GASONICS PEP 3510 Iridia是一款具有先进等离子体处理能力、过程监控特性、高通量性能的最先进的蚀刻机/asher单元。它是一种通用工具,可解决各种半导体制造应用,为用户提供生产先进半导体器件所需的精确度、可靠性和效率。无论是蚀刻薄膜、去除残留物,还是在半导体制造中执行关键工艺步骤,NOVELLUS PEP 3510 Iridia都是实现高质量、均匀结果的领先解决方桉。
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