二手 HARRICK PDC-002 #293802208 待售

ID: 293802208
Plasma cleaner Vacuum pump Compact tabletop unit (6) Chambers with diameter: 6 mm Hinged cover feature: Magnetic closure and viewing window CE Regulation Needle valve: 1/8 NPT Pyrex plasma chamber Vacuum pump speed: 1.4 m3/hr, 50 / 60Hz 32 / 36m 3h-1 3 Ultimate total pressure: 23m torr Motor power: 250 / 300 W Dual gas feed for process gas mixing Dual calibrated process gas flowmeter: 1.0 SCFH and 2.0 SCFH Thermocouple vacuum gauge RF Power: 7.16 to 29.6 W RF Frequency: 8 to 12 MHz.
HARRICK PDC-002是一种用途广泛的等离子体蚀刻器/asher设备,设计用于对各种材料进行精确和均匀的表面修改。这种先进的等离子体加工工具能够高精度、重复性地去除有机污染物、清洁表面、蚀刻各种材料。凭借其用户友好的界面和先进的功能,PDC-002适用于需要可靠等离子体处理能力的研发设施、学术机构和工业实验室。HARRICK PDC-002利用低压等离子体放电来活化气体,如氧气、氙气或其他反应性物质,用于表面处理应用。该系统具有坚固的真空室,配有高质量组件,可产生和控制等离子体放电。真空室设计用于在整个加工周期中保持稳定和均匀的等离子体环境,确保整个处理表面的结果一致。PDC-002的一个关键特征是它的可自定义的过程参数,允许用户根据他们的特定应用要求量身定制等离子体处理。该装置提供对气体流量、压力、功率密度和处理时间的精确控制,使用户能够针对不同的材料和应用优化等离子体处理条件。这种灵活性使得HARRICK PDC-002适用于广泛的过程,包括表面激活、清洁、蚀刻和功能化。PDC-002具备先进的安全功能,确保用户在操作过程中的保护和机器完整性。该工具包括互锁、压力传感器和过载保护机制,以防止设备损坏并维护安全的操作环境。此外,软件界面提供了对关键参数的实时监控,允许用户跟踪等离子体处理的进度,并根据需要进行调整。HARRICK PDC-002的等离子体源由高频射频发电机供电,能够向等离子体放电提供精确的功率水平。该资产提供连续波和脉冲操作模式,允许用户根据所需的过程结果优化向等离子体的能量传递。射频发生器与模型控制软件集成,使得电源和等离子体过程之间实现无缝通信和同步。PDC-002设计用于与外部外围设备和附件(如气流控制器、质量流量计和现场诊断工具)轻松集成。该设备可定制附加组件,以增强其特定应用的能力,如反应性离子蚀刻、等离子体聚合或表面官能化。HARRICK PDC-002的模块化设计允许用户根据需要扩展和升级系统,以满足不断变化的研究和处理需求。总之,PDC-002是一个最先进的等离子体蚀刻器/asher单元,它为各种材料和应用提供精确和均匀的表面修改能力。HARRICK PDC-002具有先进的功能、可定制的工艺参数和用户友好的界面,是研究人员和工程师寻求实现受控和可重现的等离子体处理结果的宝贵工具。
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