二手 LAM RESEARCH 2300 Exelan #9298287 待售

ID: 9298287
晶圆大小: 12"
Dielectric etcher, 12" Process: KIYO_EXEL_CU Chambers V2 Mainframe (3) Load ports Chemicals / Gases: Chamber positions 1, 2, 3 and 4: C4F8, CF4, Ar, H2, CHF3, CH2F2, C4F6, 30%O2He Does not include Hard Disk Drive (HDD) Power: 208 AC, 3 Phase, 400 A.
LAM RESEARCH 2300 Exelan是一种蚀刻/抽吸系统,利用等离子体或气体蚀刻在半导体晶圆上图样和加工有机材料。该系统用于制造集成电路,特别是用于高级内存应用。它具有多枪源配置,是保形蚀刻的绝佳选择。2300 Exelan设计为八室配置。它使它能够提供非常均匀的蚀刻层,这是高质量的IC所必需的。它还具有更先进的蚀刻能力,能够在亚微米级生成等离子体。这种蚀刻功能对于制造高级内存应用程序至关重要。此外,LAM RESEARCH 2300 Exelan具有更高的吞吐量能力,每小时最多可处理80个晶圆。2300 Exelan配备了先进的低频等离子体(LFP)发电机,使其能够在广泛的深度进行控制蚀刻。它还具有创新的控制过程,如总压力调整和温度控制,有助于确保精确蚀刻。此外,LAM RESEARCH 2300 Exelan采用自动源压力控制系统设计,为用户灵活调节不同基板的源压力。2300 Exelan还包括一组传感器,可完美监控工艺参数,并为用户提供开放的反馈回路来控制蚀刻工艺。作为其高级设计的一部分,LAM RESEARCH 2300 Exelan还包括一个帮助优化每个周期的高度高级算法。这有助于提高蚀刻速率,同时保持成品的均匀性和准确性。总体而言,2300 Exelan是细腻底物保形蚀刻的绝佳选择。其高吞吐量、先进技术和灵活性使其非常适合高级内存应用程序的严格要求。LAM RESEARCH 2300 Exelan具有多枪配置、精确控制和出色的精确度,是您任何蚀刻/抽吸需求的绝佳选择。
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