二手 LAM RESEARCH 2300 Kiyo #9074799 待售
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ID: 9074799
Multi-process etcher, 12"
(4) chambers Kiyo system
(1) 2300 VERSYS SILICON PM, 12"
(1) 2300 System platform
(1) 2300 Process module
(1) 2300 Versys silicon options
2300 Versys Star with tunable ESC
Chemraz O-ring
Heated Foreline
2300 LSR endpoint option: 1 PM
NSR-Kiyo configuration
NSR-Nova 3030 module
(1) Versys silicon quick clean kit
(1) Versys silicon pend. valve kit
(1) 2300 Versys silicon gas box
(1) 9 Gas configuration (IGS)
(7) Additional gas line (IGS)
(1) IGS tool kit
(1) MFC ERGO tool kit
(1) service ladder
(1) Gas box hoist
2300 Platform
(1) 3 FOUP
(3) ASYST RF ADVANTAG
WIDS BTM Read
OHT PIO sensor
Conditioning station
SW: customer supply 3030 CD
User interface: side and front monitor
System up circuitry
Cable: TM-subpanel, 50 ft
System calibration and alignment'
2300 Peripherals
Pump exhaust dilution box
2300 Software features:
Blanket Thickness: Included
Removed the Versys chamber and Modified in 2005,
(3) 2300 VERSYS KIYO PM, 12"
(3) 2300 Process modules
(3) 2300 Versys KIYO options
(3) 2300 Versys KIYO with Tunable ESC
(3) Chemraz O-rings
(3) Heated Forelines
(3) 2300 Versys KIYO gas boxes
(3) 9 Gas configurations (IGS)
(21) Additional gas lines (IGS)
(6) Non Standard MFC
(3) NSR5648_A: gas configuration line 11
2300 Software Features
Blanket thickness: (3) included
2004 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyo是一个多晶片、单室、干蚀刻和灰化平台，主要用于硅片和介电层的蚀刻和灰化。Kiyo的硬件由一个工艺室、其封闭的电力电子设备和其封闭的气体配电线路组成。它使用先进的过程控制,包括压力和温度控制,以及专有的气流控制,以帮助确保在数百个晶圆中获得一致的结果。Kiyo的主要优点是其在大量晶片上的均匀蚀刻性能。它能够处理直径达300毫米的晶片，每个循环最多4,950个晶片。Kiyo采用脉冲垂直准直离子源（VCIS）技术蚀刻硅片，精度小于1纳米，允许高精度蚀刻结果。Kiyo还提供各种材料蚀刻工艺模块，从蚀刻到复合去除，以及真空工艺选项，如低压炸药蚀刻。Kiyo内置供气系统的设计是为了保证整个工艺室内气体的均匀流动。它能够运行准直和非准直蚀刻过程以及各种其他过程。它还具有智能晶片处理系统，具有自动卡带加载、卸载和跟踪功能。为确保流程可重复性，Kiyo使用多个软件系统监控流程步骤。Kiyo有双室设计，允许它在不同温度下同时处理蚀刻和灰化，同时允许更快的运行时间。它还配备了功能强大的自动化端点计算系统，为用户提供有关蚀刻和ashing进度的实时反馈。最后，Kiyo与各种操作系统兼容，并拥有广泛的过程和安全监测工具，确保整个过程的可靠性和安全性。
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