二手 LAM RESEARCH 2300 Kiyo #9302266 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9302266
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Poly etcher, 12" (4) Chambers (3) FOUP load ports RPDP AC Power box Does not include system pumps or chillers (16) Gas lines IGS Gas boxes: Gas line / Gas type / MFC Size Gas 1 / SiCl4 / 100 Gas 2 / BCI3 / 300 Gas 3 / Cl2 / 300 Gas 4 / HBr / 500 Gas 5 / CF4 / 400 Gas 6 / O2 / 500 Gas 7 / O2 / 200 Gas 8 / He / 500 Gas 9 / H2 / 200 Gas 10 / CH2F2 / 200 Gas 11 / Ar / 1000 Gas 12 / 30% O2He / 50 Gas 13 / NF3 / 1000 Gas 14 / N2 / 250 Gas 15 / CHF3 / 300 Gas 16 / SO2 / 200 2008 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyo是一个最先进的等离子体蚀刻器/asher系统,设计用于精确可靠的晶圆处理。它的特点是创新、紧凑的设计,优化了设备的足迹,并允许更精确的移动和控制。其先进的能力与卓越的可靠性和可重复性相辅相成,这种可靠性和可重复性由卓越的静电场、精确的扫描运动和精确的气流提供,用于精确的360°单晶圆蚀刻。强大而先进的Kiyo具有获得专利的电弧检测机制(ADM),可让工艺用户精确控制蚀刻过程,并确保出色的蚀刻精度和一致性。使用这种基于应用程序的控制,用户可以调整应用的气流和压力,以获得精确的蚀刻结果,从而最大程度地减少刀具运行周期的数量。此外,Kiyo可以在难以蚀刻的材料上提供高蚀刻性能,如光刻胶、钨、硅、高k电介质和其他材料。这是由特定于应用程序的晶圆处理模块(WHM)实现的,这些模块通过高速扫描提供精确的运动和运动控制。Kiyo还配备了多个节气门和质量流量控制器,能够在晶圆表面上实现精确的气体控制和均匀的气体分布。这提供了极好的可重复性,这在诸如MEMS和微处理等应用中是必不可少的。Kiyo还包括一项特殊功能,可帮助确保提供清洁蚀刻结果-这是一个获得专利的泵系统,可帮助在蚀刻之前、期间和之后疏散空气和副产品。除了先进的功能外,Kiyo还采用图形用户界面(GUI)来设计易用性。GUI允许流程工程师轻松设置蚀刻参数、监控刀具性能并优化流程配方以获得一致且可重复的结果。此外,Kiyo能够将数据传输到USB驱动器,甚至可以连接到主机PC进行进一步的数据处理和控制。总体而言,2300 Kiyo是一种理想的蚀刻解决方桉,可为用户提供精确且可重复的结果,同时还可最大程度地减少工具运行时间。Kiyo利用创新的运动控制、精确的气流和先进的功能,如泵系统和特定于应用程序的WHM,为任何应用程序提供最佳的蚀刻性能。
还没有评论