二手 LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP #9241985 待售

LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP
ID: 9241985
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Etcher, 12" 2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP蚀刻器是一种用于半导体行业蚀刻工艺的高性能、多室等离子体设备。它具有获得专利的源主机模块化体系结构,为复杂的蚀刻过程提供了灵活性并提高了吞吐量。400mm的大腔室允许一个能够进行大容量设备生产的系统以及专门的晶圆处理。此外,该单元通过基板装卸、多腔室配置以及执行各向同性和各向异性蚀刻的能力,提供了高水平的功能和工艺精度。该Metal45-CIP配备了跨越100MHz至2.45GHz频率范围的多频电容耦合等离子体(CCP)源。这种宽频率范围使机器能够由于调节源功率、温度和压力的灵活性,以优越的工艺控制和均匀性蚀刻多种材料和层。此外,Metal45-CIP能够控制基板的偏压,以降低电感处的功率射频。通过这种提高的工艺控制水平,半导体设计者能够实现对掺杂、接触和栅极结构的高度精确控制。Metal45-CIP获得专利的多端口源-主机(MPSH)体系结构允许气源直接垂直进入,从而实现快速高效的气体分配,从而降低气体膨化效应,提高蚀刻均匀性。此外,该工具采用模块化设计,最多可同时操作3个会议厅,根据应用程序和流程需要实现灵活的资产配置。此外,Metal45-CIP还配备了源主机机械联锁和压力泄漏检测模型等先进的安全功能,以保护人员和方便安全操作。此外,它还具有先进的监控和诊断功能,例如远程监控,以提高生产效率和设备可用性。总之,2300 Metal45-CIP蚀刻器是半导体工业中一种先进的基于多腔等离子体的蚀刻工艺系统。凭借其多室配置、宽频率范围、模块化MPSH架构以及先进的安全功能,该单元提供了高水平的过程控制,以实现高效可靠的性能。
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