二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9226894 待售

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ID: 9226894
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
Polysilicon etch chamber, 12" Process: HIK Diameter: 300+/- 0.05mm (SEMI M28), 775 +/- 25um 2300 Kiyo process module 2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo是一款为半导体器件制造而设计的蚀刻器/asher。它是一种全封闭、高压、高温、高真空蚀刻器,设计用于处理300 mm尺寸范围内的大面积基板。该设备具有大容量和获得专利的大气负载锁设计,可方便高效地转移基板。该系统可处理Si、SiGe、SOI、Al、Ti、Cu等多种材料。该单元是一个高效、双波长的离子机蚀刻平台,能够同时执行标准和高长宽比工艺。配备大功率蚀刻源、高压注气、排气处理工具、就地诊断资产。蚀刻室和工艺模块由坚固的不锈钢构成,对整个蚀刻过程具有精确的温度控制。它能够在深层各向异性蚀刻过程中实现高温和高等离子体条件,且室内污染最小。该型号还配备了Kiyo™ Sidestream Processing获得专利的LAM RESEARCH,可提高蚀刻均匀性和提高工艺稳定性。这一特性使得可以独立控制蚀刻室两侧的等离子体,使蚀刻轮廓优化到满足工艺要求。设备还有一个过程监控系统,允许对晶圆几何形状、温度和等离子体均匀性等关键参数进行实时监控。该单元与基于Windows的图形用户界面(GUI)和屏幕上的流程控制完全集成和自动化。该界面允许轻松设置复杂的流程,并提供包括流程目录和实时流程数据的综合报告机。该工具还具有室内光学测量功能,以收集有关薄膜和氧化物厚度以及轮廓形状的数据。2300 Versys Kiyo是一款可靠、用途广泛的蚀刻器/asher,可满足半导体器件制造的苛刻需求。它设计用于高通量、高均匀性蚀刻以及化学机械抛光(CMP)。凭借其精确的温度控制和先进的过程监控能力,资产能够在保持高产的同时优化性能。
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