二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9266036 待售
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ID: 9266036
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Polysilicon etchers, 12"
(3) FOUP
WIDS BTM Read
Earth leakage breaker
Cable: TM Subpanel, 100 ft
System UPS circuitry
Side and front monitor
IGS GB: (16) Lines with frame
DSO Gas box with frame
Includes:
2300 Frame
(2) Exelan flex chambers
(2) Kiyo FX chambers
2005 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo是在半导体生产中为低温材料的高通量、高性能加工而设计的先进蚀刻器/asher。它采用双室设计,可在一个室内容纳两个独立的基板。该腔室能够达到最高500C的温度,并且可以通过使用强大的控件进行精细调整,以确保适当的材料加工。2300 Versys Kiyo提供精确的气体分配和控制,这对于高级过程控制和可重复结果至关重要。它与Lam专有的原位光致抗蚀剂剥离机理结合在一起,具有独特的阴极电弧递送,可提供优越的效果,不会对底层基板造成可测量的损害。此外,Kiyo还包括一个高容量气体输送设备,用于同时蚀刻和粉刷多达8个晶圆,以提高吞吐量。此外,其精密的真空歧管设计允许精确和可重复的蚀刻结果。LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo的设计具备全面的流程监控能力,以确保可重复的精确结果。它与直观的软件包集成在一起,允许通过其图形用户界面对参数进行有效的微调。此外,最新的数字闭环工艺控制技术为后工艺分析提供了最优晶圆均匀性。2300 Versys Kiyo还具有获得专利的预扩散阶段,允许材料在蚀刻之前在垂直方向上精确扩散。它也是唯一一个提供单一单元气体喷射单元的系统,该单元具有获得专利的外壳技术,可确保准确的均匀沉积,而不会使其他结构暴露于有害材料中。最后,它的前门检修门简化了操作,方便了机器的快速和方便的维修。LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo是为生产半导体应用的低温材料而设计的先进、高性能的蚀刻器/asher。其双腔室设计、精密气体输送、高精度工艺控制和原位光敏剥离机构,提供了一致、可重复的结果,具有最佳晶圆均匀性。这些功能结合直观的用户界面和快速维护功能,使2300 Versys Kiyo成为高通量应用程序的理想选择。
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