二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9359216 待售
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ID: 9359216
晶圆大小: 12"
Etcher, 12"
(3) Process chambers
V2 Platform
Transfer chamber:
BROOKS AUTOMATION Transfer robot
Transfer robot ARM
(6) Rocker valves
TM Pressure gauge
MKS 640 TM Pressure control
Loadlock pressure gauge (Hasting gauge)
VAT Slit door
TM Super slot board
Airlock cover
DA Sensor
Etch chambers PM2/PM3:
2300 Kiyo, 2005 vintage
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
Etch chamber PM4:
2300 Kiyo Chamber
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH 2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Quartz injector
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
(3) Gas panels:
PM2:
IGS Gas panel
12-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
PM3/PM4:
IGS Gas panel
16-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
Gases for PM2/PM3/PM4:
Gases / Size
CL2 / 200 SCCM
HBR / 50 SCCM
CF4 / 200 SCCM
O2 / 20 SCCM
O2 / 200 SCCM
HE / 500 SCCM
SF6 / 200 SCCM
CH4 / 50 SCCM
HBR / 500 SCCM
CHF3 / 200 SCCM
N2 / 100 SCCM
AR / 500 SCCM
Delivery and pre-charge gas line
GIB Line and FIB cover
Gas box cover.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 蚀刻器/asher是来自半导体工艺设备领先供应商LAM RESEARCH的一系列前沿蚀刻/灰分工具中的最新产品。它被设计成一种高效、高通量的设备，能够重现严密的尺寸控制和高保真表面。它非常适合各种过程,包括高级和多层蚀刻/灰烬应用程序。Versys Kiyo利用先进的射频技术提供了最高精度的蚀刻/灰分工艺。其最先进的过程控制和诊断提供了卓越的性能和可靠性,从而产生了卓越的设备产量,并允许更高的过程吞吐量。该工具先进的温度控制技术也确保了高精度和重复性。该机的晶片处理能力在设计上也提供了关键优势，因为Versys Kiyo配备了高效、可配置的晶片传输系统和20站集群工具卡带装载机。这确保了晶片的快速、可靠的加载和卸载,这是任何蚀刻/灰烬工具的重要功能。该单元还通过其可编程的功率和频率功能提供了灵活性,使流程能够针对一系列设备类型进行定制,包括细线、瘦线和其他复杂几何形状。此外,还提供了一系列最先进的射频功率函数,如脉冲功率、线性功率坡道和可编程波形,以进一步扩展蚀刻/灰烬处理的灵活性。为了提供最高水平的机器精度和可追踪性,Versys Kiyo 蚀刻器/asher包括集成的计量包和先进的表面成像技术。这些特性旨在最大限度地提高工艺控制和重复性，并为晶片提供尽可能高的成像精度和分辨率。最后,Versys Kiyo 蚀刻器/asher设计为具有较低的运营成本,这有助于最大限度地为设备制造商和最终用户节省成本。先进的用户友好操作使操作员能够快速了解和利用Versys Kiyo的功能,从而帮助降低用于安装和操作员培训的资源成本。总体而言,2300 Versys Kiyo 蚀刻器/asher提供了高级蚀刻性能、高晶圆吞吐量、可配置性和低运营成本的完美组合。这使得它成为各种复杂蚀刻/灰烬工艺的理想工具。
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