二手 LAM RESEARCH 2300 Versys Metal #293829553 待售
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ID: 293829553
Chamber
Quick clean kits
Pendulum valve clean kits
Chamber manometer filter
Wafer clamping mechanism: Bipolar ESC, Ceramic
Edge ring: Standard
ESC Hose kit: Standard with shaft seal
ESC Facility plate: Compression facility plate
Chamber manometer: Standard
Wafer lift mechanism: Direct drive
Focus ring: Ceramic
Capacitance lock: No capacitance lock
Voltage control interface: 1200V
Gas feed: Top
O-rings: Chemraz
TCP Coil plating: Improved coil plating
200MM Turbo pump: 2200 L/s BOCE (Seiko Seiki)
Endpoint detection: Optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve: Chemraz seal door on VAT Rkr
Lower isolation valve: Chemraz (-101)
Pump to TCU: 50ft
TCU to PM: 100ft
PM to Pump interconnect: 100ft
TCU to RPDB: 50ft
Pump to RPDB: 50 ft
Gas box:
Mounting location: Transport module
Door: Window
Primary valve options: Lock-out tag-out manual valve
Facilitization: No gas interface box
Gas system exhaust: Top exh (Heat and smoke ABTMNT)
Gas system metrology
Primary proc gas line valves: CIP
Secondary proc gas line valves: CIP
Jetstream gas box:
Config MFC by Line? : Yes: Line by line
(16) Process gas lines
Heated gas lines option heated lines: Pos 1 & 2
Manifold options: Multi-exit
Peripherals:
Metal etch backing pumps cust: Supply: IH-600
Metal etch TCU config cust supply: 4080 Plus
PEDB
TCU Hose kit: Lam supplied
TCU to PM hose type: Standard
Gas box config:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow / Heated / Facilitization
Line 01 / - / No gas / - / - / Yes / No
Line 02 / SD519 / BCL3 / 500 / Yes / No
Line 03 / SD519 / O2 / 200 / No / No
Line 04 / SD519 / CL2 / 300 / No / No
Line 05 / SD519 / NF3 / 200 / No / No
Line 06 / - / No gas / - / No / No
Line 07 / SD519 / SF6 / 200 / No / No
Line 08 / SD519 / N2 / 500 / No / No
Line 09 / SD519 / CF4 / 200 / No / No
Line 10 / SD519 / AR / 500 / No / No
Line 11 / SD519 / HE / 300 / No / No
Line 12 / - / No gas / - / No / No
Line 13 / - / No gas / - / No / No
Line 14 / - / No gas / - / No / No
Line 15 / - / No gas / - / No / No
Line 16 / - / No gas / - / No / No.
LAM RESEARCH 2300 Versys Metal是一款专门为先进半导体制造工艺中的金属层而设计的尖端蚀刻器和asher。该设备采用创新技术和功能,可为大批量生产环境提供精确可靠的蚀刻和灰化性能。2300 Versys Metal的核心是其先进的工艺能力，它允许以非凡的均匀性和选择性对各种金属层进行蚀刻和灰化。该系统能够处理广泛的半导体制造常用金属，包括铝、铜、钛、钨等。LAM RESEARCH 2300 Versys Metal的多用途加工能力使其非常适合各种应用,例如金属门蚀刻、金属接触图样以及高级逻辑和内存设备中的金属去除。2300 Versys Metal的关键部件包括高性能等离子体源、先进的气体输送单元、精密基板处理平台以及直观的过程控制软件。等离子体源产生高反应性等离子体，使金属层能够高效蚀刻和灰化，而气体输送机则控制工艺气体的流动和组成，以达到最佳工艺条件。精密基板处理平台确保晶片在处理过程中的精确对准和控制，而过程控制软件则为配方开发、过程监控和数据分析提供了用户友好的界面。LAM RESEARCH 2300 Versys Metal的一个显着特点是其先进的端点检测能力，它允许对蚀刻和灰化过程进行实时监控，以实现对过程端点的精确控制。此功能对于实现金属层蚀刻和灰化的均匀性和可重复性至关重要,因为它使刀具能够在到达所需端点后自动停止该过程。此外，该资产还配备了先进的腔室清洁能力，以保持工艺清洁，防止不同金属层之间的交叉污染。2300 Versys Metal的设计考虑了生产力和成本效率,具有高吞吐量和低拥有成本。该型号能够每小时处理大量晶片，非常适合大批量生产环境。设备还采用了节能技术，以尽量减少耗电量，并降低设备使用寿命期间的运营成本。综上所述，LAM RESEARCH 2300 Versys Metal是先进半导体制造中为金属层加工量身定制的最先进的蚀刻和asher系统。凭借其先进的工艺能力、精确的控制功能和高吞吐量性能,该设备为半导体制造商提供了一种在尖端半导体器件中蚀刻和灰化金属层的可靠且经济高效的解决方桉。
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