二手 LAM RESEARCH 2300 #9083803 待售
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ID: 9083803
晶圆大小: 8"
优质的: 2004
Oxide etcher, 8"
Cass nest plastic, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
(4) Process chambers:
Position 1: 2300 Exelan
Position 2: 2300 Exelan
Position 3: 2300 Exelan
Position 4: 2300 Exelan
Front end load port cassette:
(3) Open cassettes iPX
Backing pumps for TM iPX
User interface option: Side and front monitor UI
Earth leakage breaker ELB
Signal tower
SECS / GEM
Plat from type: Version 2
2300 Exelan options:
Chamber type: 2300 Exelan CFE
Upper electrode heated
ESC Cooling dual zone
1600 L/S EDWARDS Turbo pump, 8"
Endpoint detection optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve rocker gate valve
2300 Gas box:
Gas system type: Enhanced gas box II
Std stacking kits: 4 PM stacking kit
Gas line 12 gas configuration
Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel
Gas filters: Standard filter
Gas box configuration:
PM1 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
PM2 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM3 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM4 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
2300 Peripherals:
DFC Backing pumps cust supply
DFC TCU Config lam supply: (4) 4080 Plus
Gas scrubber: EBARA GTE-3-0WVT
Power distribution module: RPDB
Dry pumps:
TM EDWARDS iPX 100A
PM1 EBARA AA100W
PM2 EBARA AA100W
PM3 EBARA AA100W
PM4 EBARA AA100W
No SMIF interface
2004 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Exelan是专门为大批量生产半导体器件而设计的技术先进的蚀刻器和asher。Exelan能够高速蚀刻和灰化,但仍能提供极其精确的结果。其独特的半水化学工艺确保了一致的结构和表面质量。该设备能够对硅晶片进行高通量蚀刻和灰化，一次最多可处理三个200毫米（8英寸）晶片。Exelan为流程自动化操作配备了高级流程控制和集成功能。其高精度的光学白光系统使该单元能够进行精密和精密的蚀刻和灰化。其先进的自动化机器提供了一种本地化和灵活的控制策略，允许同时控制各种工艺参数。集成的机械臂有助于最小化循环时间,同时提供可重复的结果。机器的软件控制提供了完整的过程控制和集成能力，t包括高精度光学配准系统、自动稳定控制系统、精密晶圆定向系统、集成机器人臂等广泛的变量。该工具配备了广泛的食谱库，可用于具有类似处理要求的应用程序。Exelan还提供了一整套流程、诊断和数据分析功能。该资产具有自动装卸晶片的工艺小型机器人.此外，该模型还内置了诊断工具，可以对蚀刻和灰化过程进行监测和分析。该设备还提供流程控制软件,使工程师能够调整流程以获得最佳性能和效率。Exelan的模块化设计实现了对其他功能的定制,如氮注入系统、再循环系统和其他化学输送系统。该系统符合各种安全和环境标准，并通过了各种测试制度中的各种安全检查。该单位已被证明有助于降低拥有成本，并提供较低的运营总成本。总体而言,2300 Exelan是一台高级机器,能够执行高性能的蚀刻和灰化任务。该工具非常适合大批量生产应用（例如半导体器件制造）,因为它能够实现高时效和经济高效的操作。资产的集成过程控制和自动化功能提供一致且可重复的性能,而其广泛的过程、诊断和数据分析功能可确保过程优化和效率。
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