二手 LAM RESEARCH 2300 #9197892 待售
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已售出
ID: 9197892
优质的: 2011
Etcher
Model: Syndion
Flow rate:
Vibration: ±2%
Digital MFC
Gases Size Purity
C4F8 400 sccm 99.999% (5N)
SF6 1800 sccm 99.999% (5N)
Ar 200 scm 99.9995% (5N5)
O2 200 sccm 99.999% (5N5)
CF4 500 sccm 99.999% (5N5)
Pressure:
PM Pumpdown:
500mTorr
APC Valve open
LL Pumpdown:
80mTorr
Gate valve open
Temperature: ±2° C Vibration
Forward power: ±1% Vibration
Ref power: ±1% Vibration
Process module configuration:
Transport
L/L Chamber: Dry pump pumping speed: 37 m³/h
Etch process chamber (Type: Syndion)
Power system:
TCP Generator (AE 3000W)
Bias generator (AE 2000W)
Pressure system:
MKS Gauge (100mTorr / 500mTorr / 10000mTorr)
ESC (Monopolar)
Dry pump not included
2011 vintage.
LAM RESEARCH 2300是一种为制造微电子元件而设计的先进蚀刻器或asher。这种最先进的设备提供了在微芯片上创建精确模式和电路所需的精确控制，从而能够为芯片系统、传感器和微控制器等应用生产高性能组件。2300采用涉及物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）的多级蚀刻工艺，允许对包括铝、铜和多晶硅在内的许多不同材料进行均匀一致的蚀刻。CVD工艺尤其用于薄膜的沉积和微芯片上的复杂图桉。LAM RESEARCH 2300支持了一系列的应用，包括亚微米图样的蚀刻、底物的变薄以及各层材料的沉积。由于其先进的技术，该系统还可以实现薄至100 nm或更低的半导体元件。2300的其他特性，例如其先进的控制单元，允许更高的精度、重复性和延长寿命。多亏了LAM RESEARCH 2300,才能以最低的複杂度实现准确一致的轮廓蚀刻。该机还以其出色的工艺可重复性（对于大批量生产至关重要）和基于配方的自动化工艺控制而闻名。总体而言，2300是生产高性能、可靠的微电子元件的宝贵工具。其精密的过程控制和可重复性能力，加上其广泛的应用范围，使其成为高精度微芯片蚀刻的理想选择。
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