二手 LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EX #293797205 待售
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ID: 293797205
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
Polysilicon etcher, 12"
(3) Cassettes
TDK TAS 300 Loadport
KAWASAKI NT510 Robot
Chamber type: Kiyo E PM1, PM2, PM3, PM4, PM5
KASHIYAMA MU100XU-200 Loadlock pump
(5) EDWARDS IXM600M Chamber pump
MARUYAMA HCL203-LD Chiller
SECS II Interface
(2) Channels
Chamber position PM1, PM2, PM3, PM4, PM5:
EDWARDS STP-XA2703CV
ADVANCED ENERGY Apex 1513 RF Generator
ADVANCED ENERGY Paramount
Gas box configuration:
PM1: P/N 571-065780-xxxx
PM2: 571-065780-702
PM3: 571-065780-H7829
PM4: 571-065780-H7829
PM5: 571-065780-H7829E
Line / Gas / Size
1 / SiCl4 / 100 sccm
2 / BCl3 / 500 sccm
3 / CHF3 / 300 sccm
4 / CH3F / 300 sccm
5 / CH2F2 / 100 sccm
6 / C2H4 / 20 sccm
7 / CF4 / 200 sccm
8 / SF6 / 200 sccm
9 / Cl2 / 500 sccm
10 / HBr / 500 sccm
11 / O2 / 300 sccm
12 / N2 / 500 sccm
13 / NF3 / 500 sccm
14 / He / 500 sccm
15 / Ar / 500 sccm
16 / H2 / 200 sccm
Tuning / O2 / 50 sccm
STG / He / 300 sccm
Signal lamp tower
Cables
Operating system: Windows 10
CE Marked
Power supply: 208 V, 3 Phase, 400 A
2015 vintage.
LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EX蚀刻/灰分设备是一种重型多室系统,设计用于各种深层蚀刻和灰分工艺,用于先进的半导体器件制造。KIYO EX用于生产高长宽比蚀刻结构，精度很高，蚀刻深度范围很广。它配有用于精确基板定位的5轴表和多种蚀刻和灰烬工艺室，包括低压化学气相沉积单元、深反应性离子蚀刻器（RIE）机和感应耦合等离子体（IPC）工具。该资产与厚度可达4mm的常规晶片和Pyrex晶片兼容。KIYO EX的RIE型号配备了更新的硬件和软件组件，使Si、SiGe、SiC等一系列硅基材料中的深而窄的沟槽能够实现高速、精确的蚀刻。它还包括一个具有广泛气体溷合物和射频频率的连续等离子体源，允许精确调整蚀刻速率和深度剖面。IPC设备具有宽/凸起的源天线和较大的有效区域,能够对难以蚀刻的材料进行低功率操作。它还配备了一个板载除簇模块和特定材料调整蚀刻参数的能力。KIYO EX系统还提供了几种流程自动化功能，如晶圆映射和腔室清除，以提高流程的可重复性和正常运行时间。它还通过光学、热和计量模块集成支持先进的基板处理和质量控制。高级过程控制选项（如闭环蚀刻监测）也允许精确的过程优化。除了广义蚀刻和灰烬处理之外,还可以为各种高级处理和特征大小配置该单元。2300e5 KIYO EX蚀刻/灰分机具有灵活的加工能力，为晶圆制造提供了一个功能广泛、功能强大的平台。
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