二手 LAM RESEARCH 300NX #9375202 待售

LAM RESEARCH 300NX是一种用于半导体工业薄膜沉积工艺的Etcher/Asher设备。该系统是一种多室真空沉积装置，可分批、单片、顺序生产等方式运行。该机由三个主腔室组成，每个主腔室都有自己的工艺气体控制以及能够疏散到10-7 mBar的基压。第一室是装载室，有一个用来固定晶片的装载钳和一个能够支撑多达五个晶片的平台。晶片加载后，腔室通过涡轮泵排空，达到所需压力。第二个腔室是主工艺腔室，其中包含控制反应性离子蚀刻过程的静电离子源。这是一个直流偏置源，直流电，用于向蚀刻过程提供离子能量。此外，工艺室还包含一个等离子体发生器，该等离子体发生器带有一个集成的加热器，用于控制蚀刻过程中的温度分布。第三室是通风室，压力释放到大气层。300NX提供了提高吞吐量、改进过程控制和一致性以及提高过程可重复性的几个功能。它配备了精确的椭圆卡盘，以确保晶片和离子源之间的正确对准，以及最大限度地提高蚀刻均匀性和可重复性的自动导引特性。该工具还提供3D端点检测和基板温度映射,以便用户可以监视过程端点并检测温度变化。LAM RESEARCH 300NX采用不锈钢制造，设计符合1级洁净室标准，为日常蚀刻加工提供无尘环境。中央控制面板提供直观的工作环境,使具有不同级别经验的用户能够操作资产。其稳定性和可修复性使其成为所有半导体蚀刻应用的高度可靠的模型。