二手 LAM RESEARCH 4400 #9311438 待售

LAM RESEARCH 4400 Asher是一种等离子体加工工具，设计用于在半导体晶片上产生蚀刻和沉积层及结构。该工具使用感应耦合的多射频等离子体源和自动质量flow™气体调节设备，以实现精确的气体分配和无缝的过程控制。Asher可以使用各种气体和配方，允许广泛的定制和实验。此外，4400还配备了一个强大的非接触式红外气体监测系统，用于全面监测和实时过程控制。LAM RESEARCH 4400 Asher配备了x3x和x4x工艺套件，意味着它可以取出蚀刻沉积物和asher配方，用于功率放大。它有一个用于可重复和精确基板处理的加热锁载室，一个用于更宽晶圆处理的大加工室和一个用于快速周转过程的小室。4400设计用于薄膜层的精确蚀刻、可靠的灰度和精确沉积。利用无角Plasma™和蚀刻补偿控制蚀刻和沉积精度。该工具包括对峙单元和沉积监测器，以控制离子轰击的流畅程度。它还包括一个突破性的涂层工艺，以消除聚合物堆积在蚀刻室的墙壁。LAM RESEARCH 4400具有气体组成、压力、射频功率、射频正向功率、射频反转功率、基板温度、质量流、分室压力、偏压、基板偏压等多种工艺参数。可以对这些参数进行微调,以提供最佳的工艺结果。4400 Asher还配备了自己的可选高分辨率蚀刻显示器（HRES）,这是沉积显示器的高级版本,进一步增强了该工具的功能。它可以实现尽可能高的蚀刻速率和精度,从而实现最高的层精度。LAM RESEARCH 4400 Asher旨在最大限度地提高性能和产量,并满足当今苛刻的西晶圆加工的严格标准。Asher可以处理大小晶圆直径，最大处理面积406mm。其可重复和精确的过程控制可以实现平稳、可靠和干净的结果。