二手 LAM RESEARCH 4420 XL #9173005 待售
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ID: 9173005
Lot of spare parts:
Qty Part number Description
(2) 715-011753-001 Upper baffle (Upper chamber process Kit 6")
(2) 715-011286-080 Lower baffle (Upper chamber process kit 6")
(2) 715-019773-206 Upper electrode (Upper chamber process kit 6")
(2) 716-011573-001 Upper ceramic ring face (Upper chamber process kit 6")
(2) 715-011568-001 Upper clamp electrode ring (Upper chamber process kit 6")
(2) 718-094721-26 6" JMF Electrostatic chuck (ESC) (Lower chamber process kit 6")
(2) 715-140536-001 Focus ring 6" JMF (Lower chamber process kit 6")
(2) 715-030231-003 Edge ring 6" JMF (Lower chamber process kit 6")
(2) 716-011451-001 Ceramic filler ring 6" JMF (Lowerchamber process kit 6")
(2) - MFC Cl2 200sccm
(3) 768-099511-001 Vacuum switch.
LAM RESEARCH 4420 XL是一款最先进的蚀刻器/asher，专为种植和加工半导体材料而设计。LAM RESEARCH 4420XL具有先进的工艺室,其蚀刻速率高达340 nm/min,能够达到400 °C的最高工艺温度。这使得半导体材料能够快速高效的蚀刻和粉刷。此外,4420 XL还集成了一个独特的现场测量系统,可提供有关蚀刻或灰化过程进度的实时数据和反馈。该系统还具有增强的监控界面，可实现更精确、更精确的操作。4420XL特别适合于金属蚀刻和图样加工，即在基板上形成精确金属结构的图样。整个过程高度自动化，LAM RESEARCH 4420 XL凭借其先进的冷却系统和适应性的功能集，一次流程运行最多可处理400个晶圆，速度高达50个晶圆/小时。自动装载和卸载基板也由自动盒式磁带处理程序启用。LAM RESEARCH 4420XL还配备了一整套流程控制模块,能够精确控制蚀刻和灰化过程。4420 XL除了标准蚀刻和灰化外，还具有独特的蚀刻后向上蚀刻特性，能够在不干扰底层的情况下，从半导体表面选择性去除一层氧化材料。这对于形成经常用于工业生产的多层金属结构特别有用。总体而言，4420XL是一个先进的蚀刻器/asher，设计用于生长和处理半导体材料。它能够实现高精度的高吞吐量，并具有独特的特点，使其特别适合先进的半导体工艺。
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