二手 LAM RESEARCH 4420 #199860 待售

LAM RESEARCH 4420是一种为化学气相沉积（CVD）和蚀刻工艺而设计的蚀刻器/灰化器。它有四个同时的腔室，允许用户运行两个蚀刻和两个沉积过程，以便进行有效的化学加工操作。该模型适用于广泛的蚀刻和沉积过程，包括金属、塑料、陶瓷和粘合剂。4420提供了一个通用且用户友好的界面,使用户可以轻松地对设备进行编程、监控和控制。LAM RESEARCH 4420 蚀刻器/asher设有双室环形室和RF/DC电源，让使用者产生各种等离子体特性，以配合他们的应用要求。腔室有能力容纳大于6英寸的晶圆尺寸，从而实现更大的沉积面积。该模型具有高达450°C的温度能力，可与一系列工艺气体一起使用，包括Ar、N2、Oxygen、SF6和CH4。该模型设计有一个锁载室，允许从腔室自动装卸晶片。此功能有助于减少加载和卸载时间,并提高工作效率。4420还具有独特的两机系统，允许两批晶圆用单独的配方独立处理。这给了操作员更多的控制权，为他们的生产需求创造了更大的灵活性。LAM RESEARCH 4420由LAM RESEARCH Process Expert Unit （XPES）软体套件提供动力，该套件旨在简化机器的运作。用户可以轻松地通过XPES软件对其流程进行编程和监控,从而控制其配方、设置时间和流程条件。XPES还提供了一系列诊断和报告功能,允许用户快速识别任何工具问题并进行相应的故障排除。XPES软件还与一系列行业标准数据格式和操作系统兼容,使其成为集成到现有网络的理想资产。4420旨在提供易于编程和控制的可靠蚀刻和沉积解决方桉。双室设计和高效的工艺室为用户提供了多种选择，并支持广泛的应用。用户友好的XPES软件套件有助于简化模型的操作,并使用户能够快速识别任何问题,快速做出响应并获得高质量的结果。