二手 LAM RESEARCH 4420 #9103269 待售

LAM RESEARCH 4420是一款为半导体应用而设计的蚀刻器/asher。它非常适合进行蚀刻、金属沉积和抗剥离工艺。此工具将高吞吐量与显着改进的过程控制和可重复性结合在一起,从而缩短了周期时间和准确性。它具有单批处理多达二十四个晶片的能力。4420蚀刻室可容纳200毫米和300毫米晶圆。它配备了高压熄灭阀和包括直流磁控管、微波等离子体、直流偏置在内的多种电源。电子辅助沉积（EAD）和反应性气体沉积（RGD）这两种沉积源以低得多的成本提供了优良的沉积膜。氧化物蚀刻和氮化物蚀刻等离子体源在同一设备中运行，从而实现双蚀刻操作。LAM RESEARCH 4420蚀刻器提供一致的蚀刻轮廓,具有高可重复性。它在多个晶片的面积上提供统一的配置文件应用程序,以实现高吞吐量。该系统对腔室压力、射频偏置功率、射频屏蔽功率、射频转发功率、蚀刻等离子体脉冲速率等关键过程变量提供了良好的控制。4420蚀刻装置配备了先进的数据采集技术。它借助非接触温度传感器和非接触晶圆半径传感器捕获有关气流、大气条件和废气值的数据点。一种先进的气流输送机，带有逐流排气阀，能很好地控制蚀刻过程。LAM RESEARCH 4420还采用了先进的诊断设备,包括自动工艺能力分析、产量分析和SPC。为方便用户,简化了设备诊断和维护程序。自动清除工具无需手动清洗操作。4420采用最新的prober和wafer处理技术设计了长期可靠性。其标准周期时间为30分钟，最长处理时间为1小时。其最大吞吐量为100-200晶圆/小时。这项资产是为精确的过程控制、可重复性和长期可靠性而设计的。