二手 LAM RESEARCH 4420i #9043961 待售

LAM RESEARCH 4420i Asher是一种多功能蚀刻设备,专为复杂的晶圆图桉而设计。它是一个能够替代多种蚀刻化学和蚀刻配置的平台，允许各种应用。它具有一个长腔室，允许更大的晶片与更复杂的模式，加上广泛的掩模尺寸。4420i的最先进的组合气体输送系统和统一的射频功率匹配确保了精确和可重复的过程控制,而其独立的气体溷合能力允许特别高的过程灵活性。LAM RESEARCH 4420i能够进行干湿蚀刻工艺。支持各种湿蚀刻工艺,并提供可选附件,如石英和陶瓷载体,用于更广泛的蚀刻应用。4420i通过其最先进的射频功率匹配协议,实现了精确的重复性和对蚀刻深度的控制。LAM RESEARCH 4420i配备高速载荷锁，使晶片在安全惰性的气氛中快速装卸。先进的阴极耦合晶源可确保整个晶片的蚀刻速率非常一致。此外，4420i能够支持高温和低温工艺，在丙烯醛糊剂聚合等应用中达到高达550°C的温度。LAM RESEARCH 4420i由LAM RESEARCH专属FABIS-P单元提供动力，允许非常精确的过程控制。通过自动平衡诸如功率、温度、气体压力和工艺时间等工艺参数,FABIS-P可确保从一个晶片到另一个晶片的工艺尽可能一致。机器也可以调整以满足特定的工艺要求，从而产生高度精确的蚀刻工艺。在确保一个非常可靠的过程中，4420i提供了石英钟隔离、独立加热区、工艺气体溷合和柔性晶片图样加载等其他功能。其长石英室确保每厘米蚀刻表面暴露于相同的蚀刻参数，而其锁载室降低污染风险，允许多个晶圆程序在一个周期内运行，降低晶圆对晶圆的可变性。最后，它的高精度射频匹配系统和功率斜坡保证了可重复性和均匀性。所有这些功能结合起来，使LAM RESEARCH 4420i成为高度通用和可靠的蚀刻工具。适用于多种蚀刻应用，如半导体器件制造、光掩模制作、MEMS和Bio-MEMS生产等特种蚀刻应用。