二手 LAM RESEARCH 490 / 590 #9145832 待售

LAM RESEARCH 490/590蚀刻器/灰烬是设计用于生产半导体器件的真空室。它们配备了高性能电子束枪，能够在各种光刻材料中产生亚微米图样。这些系统能够以每秒500毫米的速度将图样蚀刻到晶片中,并且可以产生特征大小在0.01到3.0微米之间的图样大小。490/590系列还提供先进的等离子体蚀刻功能,具有先进的平面化和阵列化过程。腔室是高度可配置的,有许多选项可根据特定设备要求优化蚀刻过程。可以调节等离子体源，以更好的边缘定义和选择性来控制离子通量和刻蚀形状的离子能。腔室具有多种安全功能，可以保护用户，避免晶片暴露在有害的环境中。LAM RESEARCH 490/590具有坚固的轮廓设备,可精确控制蚀刻特征的深度和轮廓,并在加工过程中减少晶圆损坏。可以对系统进行光学调节，在整个晶片上提供均匀的蚀刻。真空室可以配置为允许同时蚀刻多层，从而实现更快的吞吐量时间。490/590被设计为与各种湿处理系统兼容，可以在制造序列中与其他系统同步。该装置配备了先进的自动化机器，以便于融入生产线。这些系统的设计符合最严格的清洁标准，确保晶片在整个制造过程中保持无缺陷。LAM RESEARCH 490/590系列也与广泛的前体和其他材料兼容后蚀刻工艺。490/590是适用于广泛行业的精密蚀刻应用的理想解决方桉,包括半导体、医疗设备和MEMS设备制造。蚀刻器/asher是为提高速度和准确性而设计的,其坚固的设计可确保在未来几年提供一致的结果。